特許

J-GLOBAL ID：200903038284225107

波面収差測定方法及び投影露光装置

発明者： 中内 章博 ,  佐藤 隆一
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-001633
公開番号（公開出願番号）：特開2002-206990
出願日： 2001年01月09日
公開日（公表日）： 2002年07月26日
要約：

【要約】【課題】 半導体素子製造用の露光装置において実際に使用する状態での投影光学系の波面収差の測定が容易にできる波面収差測定方法及びそれを用いた投影露光装置を得ること。【解決手段】 パターンを投影光学系を介して投影結像する結像位置近傍に別のパターンを配置し、該パターンとは別の位相パターンを通過した光束によって形成される像の光強度分布を測定する光強度分布測定手段を用い、位相パターンを前記投影光学系の光軸と垂直な1方向あるいは複数の方向に走査したとき、前記光強度分布測定手段により前記走査と同期して得られる光強度分布の変化から、前記投影光学系の波面収差を得ること

請求項（抜粋）：

パターンを投影結像する投影光学系の像面または物体面位置近傍に位相パターンを配置し、該位相パターンを前記投影光学系の光軸と垂直な1方向あるいは複数の方向に走査したとき前記位相パターンを通過した光束によって形成される像の光強度分布から、前記投影光学系の波面収差を得ることを特徴とする波面収差測定方法。

IPC (3件)：

G01M 11/02 ,  G03F 7/22 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G01M 11/02 B ,  G03F 7/22 H ,  H01L 21/30 516 A

Fターム (10件)：

2G086HH06 ,  5F046AA25 ,  5F046BA03 ,  5F046CB17 ,  5F046CB25 ,  5F046CC01 ,  5F046DA13 ,  5F046DB01 ,  5F046DB11 ,  5F046DC12