特許

J-GLOBAL ID：200903038291151402

多色光学素子の製造方法

発明者： 伊 藤 範 人
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 吉武 賢次 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-397306
公開番号（公開出願番号）：特開2003-195025
出願日： 2001年12月27日
公開日（公表日）： 2003年07月09日
要約：

【要約】【課題】 コレステリック層上に各種の光学機能層を積層した実用的な多色光学素子を容易に製造することができる、多色光学素子の製造方法を提供する。【解決手段】 配向能が付与された配向膜12上に、キラリティを有しかつ光学活性基を有するモノマーを成分として含む放射線硬化性のカイラル・ネマチック液晶を塗布してコレステリック液晶塗膜13′を形成する(図1(a))。次に、コレステリック液晶塗膜13′を加熱して液晶を配向させた後((b))、照射領域ごとに異なる透過率を持つフォトマスク20を介して、光学活性基を活性化させる活性光線を照射し、所望の表示領域および表示色を有するコレステリック層13を形成する((c))。その後、コレステリック層13を加熱して液晶を配向させた後((d))、光学活性基が活性を示さない波長の紫外線を照射し、コレステリック層13を3次元架橋して硬化させる((e))。最後に、コレステリック層13の表面に対して表面改質処理を施した後((f))、その表面上に保護層14をウェットプロセスにより成膜する((g))。

請求項（抜粋）：

キラリティを有するモノマーを成分として含むコレステリック規則性を有する放射線硬化性の液晶に対して活性光線を照射し、活性光線の照射領域および照射量に応じた所望の表示領域および表示色を有するコレステリック層を形成する工程と、活性光線が照射された前記コレステリック層に放射線を照射して当該コレステリック層を3次元架橋して硬化させる工程と、3次元架橋して硬化された前記コレステリック層の表面に対して表面改質処理を施す工程と、表面改質処理が施された前記コレステリック層の表面上に所望の光学機能層をウェットプロセスにより成膜する工程とを含むことを特徴とする、多色光学素子の製造方法。

IPC (3件)：

G02B 5/20 101 ,  G02B 5/20 ,  G02F 1/1335 505

FI (3件)：

G02B 5/20 101 ,  G02B 5/20 ,  G02F 1/1335 505

Fターム (17件)：

2H048BA02 ,  2H048BA64 ,  2H048BB02 ,  2H048BB14 ,  2H048BB37 ,  2H048BB42 ,  2H091FA02Y ,  2H091FA07Y ,  2H091FB04 ,  2H091FC22 ,  2H091FC23 ,  2H091FC27 ,  2H091GA01 ,  2H091GA06 ,  2H091LA12 ,  2H091LA15 ,  2H091LA30