特許
J-GLOBAL ID：200903038291736648
プラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-034110
公開番号（公開出願番号）：特開平7-288195
出願日： 1995年02月22日
公開日（公表日）： 1995年10月31日
要約：
【要約】【目的】 E×Bドリフトによるプラズマの偏りを緩和し、基板の被処理面の全体に亘って均一な処理を施すことのできるプラズマ処理装置を提供する。【構成】 真空容器10内にはウェハ13が載置される第1電極11及びこれに対向する第2電極12が配置される。容器10には反応性ガスを供給するガス供給系22と、容器10内を排気する排気系23とが接続される。電極11には電極11、12間に電界Eを形成するための高周波電源14が接続される。容器10の周囲には電界Eと交差する中心面を有する磁界Bを形成するため環状磁石機構30Mが配設される。磁石機構30Mは磁界Bの中心面上で互いに異なる着磁方向を有する複数の磁石要素31を具備する。電界E及び磁界Bの外積E×Bにより生じる力により電子がドリフトする。磁界Bの中心面は、ウェハ13の被処理面よりも上にずれるように配置され、磁力線が被処理面と交差する。
請求項（抜粋）：
プラズマを用いて基板の被処理面を処理する装置であって、前記基板を収納し且つ処理する処理空間を規定する真空容器と、前記真空容器内にプラズマ化されるガスを導入する供給系と、前記真空容器内を排気する排気系と、前記真空容器内に配設された第1電極と、前記第1電極は、前記被処理面が前記処理空間内に露出するように前記基板を支持する支持面を有することと、前記第1電極の前記支持面に対向する対向面を有する第2電極と、前記第1及び第2電極間で前記ガスをプラズマ化すると共に、前記支持面上に支持される前記基板と前記プラズマとの間に前記被処理面と実質的に直交する電界Eが形成されるように、両電極間に電圧を付与するための電源と、前記第1及び第2電極間に前記電界と交差する基準面を有する磁界Bを形成するための磁石機構と、前記磁石機構は前記真空容器の周囲に沿って配設され、且つ互いに異なる着磁方向を有する複数の磁石要素を具備することと、前記電界E及び前記磁界Bの外積E×Bにより生じる力により前記処理空間内で電子がドリフトすることと、前記磁界の前記基準面において、前記磁界の向きが前記支持面上に支持される前記基板の前記被処理面と実質的に平行であることと、前記磁界の前記基準面は、前記支持面上に支持される前記基板の前記被処理面よりも前記第2電極の前記対向面側にずれるように配置され、前記磁界の磁力線が前記被処理面と交差することと、を具備することを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (5件)：
H05H 1/46
, C23C 16/50
, C23F 4/00
, H01L 21/205
, H01L 21/3065
