低いTgを有し、ビニリデンフルオライドを主成分とし、かつテトラフルオロエチレンもヘキサフルオロプロペンもシロキサン基も含まない、フルオロスルホン化エラストマー

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中村稔 (外10名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-550297
公開番号（公開出願番号）：特表2003-519259
出願日： 2000年12月29日
公開日（公表日）： 2003年06月17日
要約：

【要約】本発明は、極めて低いガラス転移点(Tg)、良好な塩基、石油および燃料に対する耐性並びに良好な利用性を有する、新規なフルオロエラストマーの合成を開示する。このエラストマーは、一例として、80〜60モル%のビニリデンフルオライド(VDF)および20〜40モル%のパーフルオロ(4-メチル-3,6-ジオキサオクト-7-エン)スルホニルフルオライド(PFSO2F)を含む。この場合において、該エラストマーは、様々な有機開始剤、例えばパーオキシド、パーエステルまたはアゾ化合物の存在下で、VDFおよびPFSO2Fをラジカル共重合することにより製造される。

請求項（抜粋）：

テトラフルオロエチレンもヘキサフルオロプロペンもシロキサン基を有するモノマーも含まず、-32〜-36°Cなる範囲のガラス転移点(Tg)を有し、ビニリデンフルオライド(VDF)およびパーフルオロスルホニルエトキシプロピルビニルエーテルフルオライド(PSEPVE)またはパーフルオロ(4-メチル-3,6-ジオキサオクト-7-エン)スルホニルフルオライド(PFSO2F)のコポリマーを含むことを特徴とする、フルオロスルホン化エラストマー。

IPC (2件)：

C08F214/22 , C08F216:14

FI (2件)：

C08F214/22 , C08F216:14

Fターム (14件)：

4J100AC24P , 4J100AG36Q , 4J100BA02Q , 4J100BA58Q , 4J100CA03 , 4J100CA04 , 4J100DA49 , 4J100FA03 , 4J100FA18 , 4J100FA19 , 4J100FA20 , 4J100FA21 , 4J100FA28 , 4J100FA29

引用特許：

審査官引用 (11件)

含フッ素共重合体の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-099766 出願人：東亞合成株式会社
特開昭57-109810
特開昭57-109810

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引用文献：

審査官引用 (4件)

ふっ素樹脂ハンドブック, 19901130, p.546-552、p.556-561
ふっ素樹脂ハンドブック, 19901130, p.546-552、p.556-561
ふっ素樹脂ハンドブック, 19901130, p.546-552、p.556-561

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