特許
J-GLOBAL ID：200903038308775197

基板処理装置

発明者：
高須 克明

高須 克明 について


出願人/特許権者：
平田機工株式会社

平田機工株式会社 について


代理人 (4件)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-211045
公開番号（公開出願番号）：特開2004-055814
出願日： 2002年07月19日
公開日（公表日）： 2004年02月19日
要約：
【課題】基板を好適に乾燥させ、高品質の基板を生成できる基板処理装置を提供すること。【解決手段】複数の基板を収容する収容棚107を備え、更に、収容棚の各段に対して同じ風量のクリーンエアを供給するためのエア供給室101を備える。エア供給室と収容棚の間には隔壁105a、105bが存在し、隔壁105a,105bには、収容棚の各段に対応する位置にそれぞれ同数のエア供給孔106が設けられている。エア供給室101には、HEPAユニット104が設けられ、HEPAユニット104から吹き出したクリーンエアは、一旦エア供給室で滞留し、HEPAユニット104から吹き出した際の風圧がエア供給室101で緩衝され、エア供給室内がほぼ均一な気圧となった状態で、各エア供給孔から各基板にエアが供給される。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
複数の基板を同時に乾燥させるための基板処理装置であって、 複数の基板を略水平に多段載置する基板収容室と、 前記基板収容部に隣接して配置されたエア供給室と、 を有し、 前記基板収容室と前記エア供給室とを隔てる隔壁は、前記基板収容室の各基板に対して前記エア供給室内のエアをほぼ同じ勢いで供給するための複数の開口部を有することを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L21/027 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1333
FI (3件)：
H01L21/30 567 ,  G02F1/13 101 ,  G02F1/1333 500
Fターム (5件)：
2H088FA21 ,  2H088HA01 ,  2H090JC19 ,  5F046JA00 ,  5F046KA10
引用特許：
審査官引用 (4件)
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