特許
J-GLOBAL ID：200903038316474996
美爪料
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-241926
公開番号（公開出願番号）：特開2002-053432
出願日： 2000年08月09日
公開日（公表日）： 2002年02月19日
要約：
【要約】【課題】 無機顔料やパール剤、ラメ剤等の粉体成分の沈降がなく、経時安定性に優れ、しかも良好な光沢性、使用性、化粧持ちに優れる美爪料に関する。【解決手段】 スルホンアミド系エポキシ樹脂及び1次粒子径が1〜100nmのシリカとを含有する美爪料を提供するものである。
請求項（抜粋）：
スルホンアミド系エポキシ樹脂と1次粒子径が1〜100nmであるシリカとを含有することを特徴とする美爪料。
Fターム (17件)：
4C083AB172
, 4C083AB242
, 4C083AB432
, 4C083AB442
, 4C083AC092
, 4C083AC352
, 4C083AC792
, 4C083AD091
, 4C083AD092
, 4C083AD221
, 4C083AD222
, 4C083AD262
, 4C083CC28
, 4C083DD23
, 4C083EE01
, 4C083EE06
, 4C083EE07
