特許
J-GLOBAL ID：200903038323827870
欠陥警告方法及び欠陥警告システム
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三好 秀和 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-339180
公開番号（公開出願番号）：特開平11-176899
出願日： 1997年12月09日
公開日（公表日）： 1999年07月02日
要約：
【要約】【課題】 半導体装置の製造工程において、オペレータがロットの製造継続等の判断を速くかつ正確に行うことができるようにする。【解決手段】 欠陥検査装置11で検出された欠陥データと、検査装置12で分類された欠陥要因とを記憶装置13に関連付けて記憶する。不良分類データ判定手段171は、不良分類装置15で生成された不良分類データに含まれる不良位置と、前記欠陥データに含まれる欠陥位置とが同一位置で一致した場合は、その不良分類データを欠陥データに関連付けて記憶させる。欠陥評価パラメータ算出手段172は、前記欠陥データと不良分類データとをもとに、同一位置での欠陥の発生率を計算し、欠陥判定手段173は、計算された欠陥の発生率が所定の判定基準を越えた場合は、警告表示装置16を介して警告を発する。
請求項（抜粋）：
被検査物を生成する一連の製造工程に用いられ、欠陥検査装置で検出された被検査物の欠陥データと、該欠陥データをもとに分類された被対象物の欠陥要因とに基づいて前記被検査物に対する欠陥判定を行う欠陥警告方法において、前記欠陥データとこれに対応する欠陥要因とを関連付けて記憶し、前記被検査物に発生したフェイルビットをもとに不良分類データを生成し、該不良分類データに含まれる位置情報と、前記欠陥データに含まれる位置情報とが被検査物上の同一位置で一致した場合は、その不良分類データを前記欠陥データと関連付けて記憶し、前記欠陥データと不良分類データとをもとに、同一位置での欠陥の発生率を計算し、該欠陥の発生率が所定の判定基準を越えた場合は警告を発することを特徴とする欠陥警告方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/66 Z
, H01L 21/02 Z
