固体撮像素子とその製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：青山葆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-045102
公開番号（公開出願番号）：特開平6-260620
出願日： 1993年03月05日
公開日（公表日）： 1994年09月16日
要約：

【要約】【目的】転送部へ入射する光を遮り、スミア特性を向上できる固体撮像素子とその製造方法を提供する。【構成】半導体基板101上に酸化膜102を形成して、この酸化膜102上に窒化膜103を形成する。上記窒化膜103上の受光部に対応する領域をフォトエッチングにより除去する。上記窒化膜103をマスクとして、選択酸化により半導体基板101の受光部に対応する領域に凹部101aを形成する。上記酸化膜102と窒化膜103とを除去して、半導体基板101の凹部101aの領域に受光部112を形成する。上記受光部112の端部に形成され、上記受光部112の中心よりも上方の領域に面する傾斜面112bにより、斜め横方向から入射する光を受光部112の上方に向けて反射する。

請求項（抜粋）：

半導体基板上に形成された受光部と、上記半導体基板上に形成され、上記受光部からの電荷を転送する転送部と、上記受光部と上記転送部とを覆う酸化膜と、上記酸化膜を介して上記転送部と上記受光部の端部とを覆う遮光膜とを備えた固体撮像素子において、上記遮光膜に覆われた上記受光部の上記端部に、上記受光部の中心よりも上方の領域に面する傾斜面を形成したことを特徴とする固体撮像素子。

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平2-304976
特開平3-161970
特開平1-168059

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