薄膜製造装置

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：東田潔 , 山下雅昭 , 打揚洋次
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-196930
公開番号（公開出願番号）：特開2004-035971
出願日： 2002年07月05日
公開日（公表日）： 2004年02月05日
要約：

【課題】ウエハー面内分布均一性を達成することができる薄膜製造装置の提供。【解決手段】ガス混合室24からシャワーヘッド25へ供給される混合ガスの供給口24aをガス混合室の底面の周縁部に設け、混合ガスがシャワーヘッド上面の周縁部から中心部へ向かって流れるように構成し、また、成膜室3内の排ガスを排気するための排気口32を、成膜室側壁の成膜時ステージ31の位置より下方部分に設けて、成膜室内の排ガスを成膜室の側壁方向へ向かわせ、排気口から排気されるように構成する。ステージ31を昇降自在に形成して、シャワーヘッド25と基板Sとの間の距離を調整可能にする。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

原料ガスと反応ガスとの混合用ガス混合室と、該ガス混合室に接続された成膜室と、該成膜室の上面に配設されたシャワーヘッドと、該成膜室内に配設された、被処理基板を載置する昇降自在のステージとを有し、該ガス混合室で得られる混合ガスを該シャワーヘッドを介して該成膜室内へ導入することにより該被処理基板上に薄膜を形成する薄膜製造装置であって、該ガス混合室から該シャワーヘッドへ供給される混合ガスの供給口を該ガス混合室の底面の周縁部に設けて、該ガス混合室から供給される混合ガスがシャワーヘッド上面の周縁部から中心部へ向かって流れるように構成したことを特徴とする薄膜製造装置。

IPC (2件)：

C23C16/455 , H01L21/205

FI (2件)：

C23C16/455 , H01L21/205

Fターム (22件)：

4K030AA11 , 4K030AA14 , 4K030BA01 , 4K030BA18 , 4K030BA22 , 4K030BA42 , 4K030CA12 , 4K030EA05 , 4K030EA06 , 4K030EA11 , 4K030FA10 , 4K030JA03 , 4K030JA05 , 4K030JA09 , 4K030JA20 , 5F045AA04 , 5F045BB02 , 5F045DP03 , 5F045EB02 , 5F045EE14 , 5F045EF05 , 5F045EF20

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開昭63-246829
特開昭63-246829
特開昭63-246829

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