特許

J-GLOBAL ID：200903038349016942

マスク検査装置

発明者： 佐々木 賢司 ,  小野 明
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 則近 憲佑
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-115100
公開番号（公開出願番号）：特開平5-249656
出願日： 1992年05月08日
公開日（公表日）： 1993年09月28日
要約：

【要約】【構成】 所定領域の波長の検査光を発する照明手段と、前記フィルタを透過した検査光を集光する集光レンズ系と、マスクを載置するステージ部と、前記マスクを透過した検査光を拡大投影する対物レンズ系と、前記対物レンズ系を透過する検査光の光線束の広がりを調整可能な開口絞り手段と、前記対物レンズ系からの拡大光像を撮像して画像信号を出力する撮像手段と、前記画像信号を演算処理する演算手段とを具備することを特徴とするマスク検査装置。【効果】 マスクパターンの拡大投影像を露光時の縮小投影像と同一の結像性能で得られ、マスクの欠陥を直接的に簡易かつ精度よく検査できる。

請求項（抜粋）：

所定領域の波長の検査光を発する照明手段と、前記検査光を集光する集光レンズ系と、マスクを載置するステージ部と、前記マスクを透過した検査光を拡大投影する対物レンズ系と、前記対物レンズ系を透過した検査光の光線束の広がりを調整する開口絞り手段と、前記対物レンズ系からの拡大光像を撮像して画像信号を出力する撮像手段と、前記画像信号を演算処理する演算手段とを具備することを特徴とするマスク検査装置。

IPC (5件)：

G03F 1/08 ,  G01N 21/88 ,  G06F 15/62 405 ,  G06F 15/64 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-100045
  
• 特開平4-100045
  
• 特開平1-143334