特許
J-GLOBAL ID：200903038349050881
ビーム照射方法及びその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
笹岡 茂 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-091900
公開番号（公開出願番号）：特開平5-264797
出願日： 1992年03月17日
公開日（公表日）： 1993年10月12日
要約：
【要約】【目的】 加速されたビームを規定の領域に照射するにあたって、任意のビーム照射量分布を得ることにある。【構成】 ビーム発生源1より発したビームを前段加速器2及びシンクロトロン3により加速し、ビームスキャナー装置4でターゲット7に照射する。ビームスキャナー装置4は、シンクロトロン3により加速されたビームをターゲット7に照射する際、X軸偏向用電磁石5とY軸偏向用電磁石6が形成する磁場波形を適当に歪ませ、この歪みに対応した照射野8内の点のビーム照射量を任意に変える。このようにして、任意のビーム照射量分布を得る。また、ターゲット、電磁石、電極又はビーム発生源の駆動波形を適当に歪ませ、同様に、任意のビーム照射量分布を得る。さらに、X軸とY軸偏向用の通電波形又は駆動波形を非同期にして、照射野に一層より均一な照射を得る。
請求項（抜粋）：
加速された荷電粒子ビームを偏向して一定の領域に照射するビーム照射方法において、荷電粒子ビームの偏向に歪みを与え、この歪みに対応した領域内の点のビーム照射量を任意に変えることを特徴とするビーム照射方法。
IPC (3件)：
G21K 1/093
, G21K 1/087
, G21K 5/04
