特許

J-GLOBAL ID：200903038349172421

光学画像取得装置、パターン検査装置、光学画像取得方法、及び、パターン検査方法

発明者： 平野 亮一 ,  小川 力
出願人/特許権者： アドバンスド・マスク・インスペクション・テクノロジー株式会社
代理人 (3件)： 松山 允之 ,  河西 祐一 ,  池上 徹真
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-024079
公開番号（公開出願番号）：特開2007-205828
出願日： 2006年02月01日
公開日（公表日）： 2007年08月16日
要約：

【課題】検査対象試料のパターンの高コントラスト光学画像を得ること。【解決手段】検査対象試料を載置する載置部と、載置部に載置された検査対象試料に光を照射する光照射部と、検査対象試料に照射する照射光の光量を増減する光量調整部と、検査対象試料に照射された照射光を受光する光学画像受光部と、を備え、検査対象試料の特定パターンに対して照射光の光量を増減する、光学画像取得装置。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

検査対象試料のパターンの光学画像を取得する光学画像取得装置において、 検査対象試料を載置する載置部と、 載置部に載置された検査対象試料に光を照射する光照射部と、 検査対象試料に照射する照射光の光量を増減する光量調整部と、 検査対象試料に照射された照射光を受光する光学画像受光部と、を備え、 検査対象試料の特定パターンに対して照射光の光量を増減する、光学画像取得装置。

IPC (1件)：

G01N 21/956

FI (1件)：

G01N21/956 A

Fターム (13件)：

2G051AA56 ,  2G051AB01 ,  2G051AB02 ,  2G051BA11 ,  2G051BB03 ,  2G051BC01 ,  2G051CA04 ,  2G051CB01 ,  2G051CB02 ,  2G051DA08 ,  2G051EA08 ,  2G051EA12 ,  2G051EB09

引用特許：

出願人引用 (1件)

• マスクパターンの検査方法、検査装置、これに用いられる検査用データおよび検査用データ生成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-393946   出願人：松下電器産業株式会社

審査官引用 (4件)

• 検査方法およびその装置並びに半導体基板の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-134145   出願人：株式会社日立製作所
• 検査方法、検査装置およびマスク欠陥検査方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-065118   出願人：株式会社東芝
• パターン検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-047310   出願人：富士通株式会社
• マスクパターンの検査方法、検査装置、これに用いられる検査用データおよび検査用データ生成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-393946   出願人：松下電器産業株式会社