特許
J-GLOBAL ID：200903038355500538
シリカゾル又はシリカゲルの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
足立 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-136741
公開番号（公開出願番号）：特開平8-333112
出願日： 1995年06月02日
公開日（公表日）： 1996年12月17日
要約：
【要約】【目的】 珪酸ソーダおよび硫酸を希釈する工程を廃し、シリカゾル又はシリカゲルの製造工程を、従来よりも簡素化すること。【構成】 本発明のシリカゾル又はシリカゲルの製造方法では、第1タンク11の水を、定量ポンプ13にて第1パイプ21に流すと共に、第1パイプ21の途中において、第2タンク14の珪酸ソーダを、定量ポンプ15にて第2パイプ22を介して添加し、同時に第3タンク16の硫酸を、定量ポンプ17にて第3パイプ23を介して添加する。この結果、第4タンク18に均一なシリカゾルを安定して得ることができる。
請求項（抜粋）：
パイプ等により形成された流路内に、液状体を所定の流速で流すと共に、前記流路の途中において前記液状体に対して珪酸ソーダ、および硫酸を添加することを特徴とするシリカゾル又はシリカゲルの製造方法。
引用特許：
前のページに戻る
