特許

J-GLOBAL ID：200903038386719341

露光装置

発明者： 水谷 英夫
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-327919
公開番号（公開出願番号）：特開平8-186069
出願日： 1994年12月28日
公開日（公表日）： 1996年07月16日
要約：

【要約】【目的】 2光束干渉方式で回折格子状のアライメントマークの位置を検出する際に、そのアライメントマークを覆うガラス基板等の位相物体の表面での反射光の影響を低減させる。【構成】 レチクル4の下面の回折格子状のレチクルマーク35Aに対して2方向から交差角2θで照明光RB1 及びRB2 を照射し、交差角2θを3分割する方向に回折光が射出されるようにする。照明光RB1 の+2次回折光RB1+2 と照明光RB2 の-1次回折光RB2-1 との干渉光、又は照明光RB1 の+1次回折光RB1+1 と照明光RB2 の-2次回折光RB2-2 との干渉光を検出対象とする。

請求項（抜粋）：

マスク上に形成されたパターンを感光基板上に露光するため、前記マスクに対して露光光を照明する照明光学系と、前記マスク、又は前記感光基板の何れか一方に形成された位置合わせ用の回折格子マークの位置を検出するアライメント系と、を有し、該アライメント系により検出された前記回折格子マークの位置に基づいて、前記マスクと前記感光基板との位置合わせを行って、前記感光基板上に前記マスクのパターンを露光する露光装置において、前記アライメント系は、前記回折格子マークに対して所定の2方向から互いに可干渉な一対の光ビームを照射する照射光学系と、前記一対の光ビームの内の一方の光ビームの照射により前記回折格子マークから発生する0次光以外の複数の回折光と、他方の光ビームの照射により前記回折格子マークから発生する0次光以外の複数の回折光との内で、互いに回折次数の絶対値が異なり、且つそれぞれ同一方向に射出される2対の回折光よりなる2つの干渉光の少なくとも一方を光電変換する検出光学系と、を有し、該検出光学系からの光電変換信号に基づいて前記回折格子マークの位置を検出することを特徴とする露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00

FI (3件)：

H01L 21/30 522 D ,  H01L 21/30 525 A ,  H01L 21/30 525 L