特許
J-GLOBAL ID：200903038388027765
荷電ビーム描画データの作成方法、荷電ビーム描画方法および荷電ビーム描画装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (8件)：
鈴江 武彦
, 河野 哲
, 中村 誠
, 蔵田 昌俊
, 峰 隆司
, 福原 淑弘
, 村松 貞男
, 橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-354467
公開番号（公開出願番号）：特開2006-165267
出願日： 2004年12月07日
公開日（公表日）： 2006年06月22日
要約：
【課題】 スループットの低下を招かずに、解像度限界の向上を図るための電子ビーム描画データの作成方法を提供すること。【解決手段】 電子ビーム描画データの作成方法は、複数の分割サブフィールドのレジスト解像性の良否を評価する工程(S4)、上記工程にて取得された評価結果に基づいてOK/NG領域分布テーブルを作成する工程(S5)、複数の分割サブフィールドに対応した複数の第3の設計データについて、クリティカルパターン寸法とOK/NG領域分布テーブルに基づいて、クリティカルパターン寸法を有し、かつ、NG領域内に存在するパターンに対応するデータに該当する否かを判断する工程(S6)、前記データに該当すると判断されたものは、OK領域内に存在するように座標変換を行ってから第1の描画データに変換し(S7)、前記データに該当しないと判断されたものは、座標変換を行わずに第2の描画データに変換する工程(S10)を含む。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
試料上の描画領域を、複数のメインフィールド、該複数のメインフィールドよりも下の階層の複数のサブフィールドおよび該複数のサブフィールドよりも下の階層の複数の単位フィールドを含む2階層以上の階層フィールドによって分割し、前記単位フィールドを描画の単位として、前記試料上に荷電ビームを照射して前記描画領域上にパターンを描画するための荷電ビーム描画装置に使用される荷電ビーム描画データの作成方法であって、
前記描画領域上に描画する前記パターンに対応した設計データを、前記複数のメインフィールドに対応した複数の第1の設計データに分割し、前記複数の第1の設計データのそれぞれを前記複数のサブフィールドに対応した複数の第2の設計データに分割し、前記複数の第2の設計データのそれぞれを前記複数の単位フィールドに対応した複数の第3の設計データに分割する工程と、
前記複数の単位フィールドのそれぞれについて、予め決められた寸法に対してのレジスト解像性の良否を評価する工程と、
前記レジスト解像性の良否を評価する工程にて取得された前記レジスト解像性の良否の評価結果に基づいて、前記複数の単位フィールドと前記レジスト解像性の良否とを関連付けたテーブルを作成する工程と、
前記複数の第3の設計データのそれぞれについて、前記予め決められた寸法および前記テーブルに基づいて、前記予め決められた寸法を有し、かつ、前記レジスト解像性が不良である前記単位フィールド内に存在するパターンに対応するデータに該当するか否かを判断する工程と、
前記複数の第3の設計データのうち、前記データに該当すると判断されたものについては、前記レジスト解像性が良である前記単位フィールド内に存在するように座標変換を行った後、第1の描画データに変換し、前記複数の第3の設計データのうち、前記データに該当しないと判断されたものについては、座標変換を行わずに、第2の描画データに変換する工程と
を含むことを特徴とする荷電ビーム描画データの作成方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 541J
, G03F7/20 521
5F056CA01
, 5F056CA02
, 5F056CA05
, 5F056CA11
出願人引用 (14件)
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特許第3085918号公報
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特許第3125724号公報
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特許第3168996号公報
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審査官引用 (11件)
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