特許
J-GLOBAL ID：200903038397855352
基板の洗浄方法及び基板の洗浄装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高月 亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-112867
公開番号（公開出願番号）：特開平7-321084
出願日： 1994年05月26日
公開日（公表日）： 1995年12月08日
要約：
【要約】【目的】 半導体基板等について、被洗浄基板のいずれの面にも悪影響を及ぼさず、かついずれの面に対してもそれぞれに適正な洗浄を行うことができ、かつ洗浄液の組成変化等をも抑制することが可能な基板の洗浄方法及び基板の洗浄装置を提供する。【構成】 ウェーハ等の被洗浄基板1を薬液等洗浄液8に浸漬して洗浄する際、被洗浄基板1の一方の面と他方の面とのいずれか一方の面のみを独立して非接触で加熱しながら、もしくは被洗浄基板の一方の面と他方の面とを各々独立して非接触で加熱しながら洗浄を行う。
請求項（抜粋）：
被洗浄基板を洗浄液に浸漬して洗浄する基板の洗浄方法において、被洗浄基板の一方の面と他方の面とのいずれか一方の面のみを独立して非接触で加熱しながら、もしくは被洗浄基板の一方の面と他方の面とを各々独立して非接触で加熱しながら洗浄を行うことを特徴とする基板の洗浄方法。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
