特許
J-GLOBAL ID：200903038398729261
CVD容器のクリーニング方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
島村 芳明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-170808
公開番号（公開出願番号）：特開2000-001784
出願日： 1998年06月18日
公開日（公表日）： 2000年01月07日
要約：
【要約】【課題】 CVD容器のクリーニングを容易に行う【解決手段】 ECRプラズマCVD法により、基板5に炭素薄膜をコーティングし、該基板を取り出した後のCVD容器1内部のクリーニング方法であって、N2 ガスまたはN2 ガスを主体としたクリーニングガス中でプラズマを発生させてクリーニングを行う。
請求項（抜粋）：
ECRプラズマCVD法により基板に炭素薄膜をコーティングし、該基板を取り出した後のCVD容器内部のクリーニング方法であって、容器中にクリーニングガスを導入し、該クリーニングガス中でプラズマを発生させてクリーニングを行うことを特徴とするCVD容器のクリーニング方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 16/44 J
, C23C 16/50
4K030AA10
, 4K030AA14
, 4K030AA16
, 4K030AA17
, 4K030AA18
, 4K030BA27
, 4K030DA06
, 4K030FA02
, 4K030KA08
, 4K030KA30
