特許
J-GLOBAL ID：200903038414741633

塗布、現像装置及び塗布現像処理における基板再生システム

発明者：
緒方 久仁恵

緒方 久仁恵 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 井上 俊夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-024178
公開番号（公開出願番号）：特開2000-223401
出願日： 1999年02月01日
公開日（公表日）： 2000年08月11日
要約：
【要約】【課題】 塗布、現像装置を運転し、処理後の基板やモニタ基板の検査を行うにあたり、スループットの向上を図ること、自動化に対応できることを目的とする。【解決手段】 キャリア搬入出部に置かれたキャリアに対してウエハの受け渡しを行うウエハ搬送部の搬送領域に、レジストパターンを検査するパターン検査部4と、検査の結果不合格となったウエハを収納するキャリア40とを設け、キャリア40を例えば装置の外部の洗浄部に運び、不合格ウエハのレジストを洗浄除去して再生し、再び装置内に搬入する。またモニタウエハのレジストの膜厚を、装置内に設けた膜厚測定部で測定し、その後溶剤ノズルを用いてシンナーで全面のレジストを除去して再生する。
請求項（抜粋）：
基板にレジストを塗布すると共に露光後の基板を現像し、露光装置に接続される塗布、現像装置において、複数枚の基板が収納されたキャリアが搬入出されるキャリア搬入出部と、このキャリア搬入出部に搬入されたキャリアから取り出された基板にレジストを塗布する塗布部と、露光後の基板に対して現像を行う現像部と、前記キャリア搬入出部、塗布部及び現像部の間で基板の搬送を行うための搬送手段と、現像処理後の基板に形成されたレジストパタ-ンを検査するパタ-ン検査部と、 このパタ-ン検査部で不合格と判定された基板を合格と判定された基板から仕分ける仕分け手段と、を備えたことを特徴とする塗布、現像装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/68
FI (5件)：
H01L 21/30 564 C ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 569 C
Fターム (34件)：
2H025AA00 ,  2H025AB16 ,  2H025EA05 ,  2H025FA14 ,  2H096AA00 ,  2H096AA25 ,  2H096CA14 ,  2H096GA29 ,  2H096LA30 ,  5F031CA02 ,  5F031CA11 ,  5F031DA01 ,  5F031FA01 ,  5F031FA03 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031JA45 ,  5F031JA51 ,  5F031MA02 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F031MA33 ,  5F046AA18 ,  5F046CD01 ,  5F046CD05 ,  5F046JA02 ,  5F046JA09 ,  5F046JA21 ,  5F046JA22 ,  5F046LA18 ,  5F046LA19
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (3件)

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