特許

J-GLOBAL ID：200903038426624934

二塩化エチレンの製造中の汚れ防止方法

発明者： ガジー・バツシヤー・デイツカキアン
出願人/特許権者： エクソン・ケミカル・パテンツ・インコーポレイテツド
代理人 (1件)： 山崎 行造 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-122643
公開番号（公開出願番号）：特開平5-140010
出願日： 1992年04月16日
公開日（公表日）： 1993年06月08日
要約：

【要約】[目的] 二塩化エチレンの製造に使用される装置中の汚れを防止する方法を提供する。[構成] 粗二塩化エチレン流れの汚れを防止するための改良された方法であって、(A) アシル化アミン(例えば、ポリイソブチレンと無水マレイン酸の反応生成物とポリアミンの反応混合物)、(B) アルキルアリールスルホン酸マグネシウム、及び(C) AとBの混合物から成る群から選択される汚れ防止剤の有効量を粗二塩化エチレン供給物流れ中に導入することを含む、方法。

請求項（抜粋）：

塩素化装置又はオキシ塩素化装置からの粗二塩化エチレン供給物流れを、精製二塩化エチレンから成る塔頂留出物流れと、汚れ量の塩素化及び/又は酸素化ポリマー物質を含む粗EDCの底部流れとに蒸留分離する、二塩化エチレンの回収方法において、底部流れ中の汚れを防止するための改良された方法であって、(A) (i) C4 乃至C10のモノ不飽和ジカルボン酸物質と反応した、約300 乃至5000の分子量を有する、C2 乃至C10モノオレフィンのオレフィンポリマーと、(ii)アミン、アミノアルコール、及びそれらの混合物から成る群から選択される塩基性反応体との反応生成物、(B) 油溶性アルキル芳香族スルホン酸マグネシウム、及び(C) 10乃至90重量%の汚れ防止剤(A)と90乃至10重量%の汚れ防止剤(B) のブレンド、から成る群から選択される汚れ防止剤の有効量を粗二塩化エチレン供給物流れ中に導入することを含む、方法。

IPC (2件)：

C07C 21/073 ,  C07C 17/38