特許
J-GLOBAL ID：200903038434743411

化粧料

発明者：
印藤 八郎

印藤 八郎 について

, 
真鍋 里香

真鍋 里香 について

, 
柴山 裕治

柴山 裕治 について


出願人/特許権者：
東洋ビューティ株式会社

東洋ビューティ株式会社 について


代理人 (1件)： 鎌田 文二 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-338842
公開番号（公開出願番号）：特開2002-145719
出願日： 2000年11月07日
公開日（公表日）： 2002年05月22日
要約：
【要約】【課題】 防腐剤を添加せず、または通常よりも少ない添加量で、安全性と使用感にすぐれ、抗菌性の高い化粧料を提供することである。【解決手段】 下記成分(A)0.01〜20重量%および(B)を必須成分として含有し、pH3.5〜7.0に調整した化粧料とする。(A)p-ヒドロキシ桂皮酸もしくは4-ヒドロキシ桂皮酸のアルカリ金属塩、アンモニウム塩またはアミン塩などの塩類または両者併用した成分(B)炭素数2〜4の低級一価アルコールもしくは炭素数2〜6で酸素数2〜3の多価アルコールまたは両者併用した成分使用感や皮膚刺激性に問題がなく、しかも抗菌性の高い化粧料となり、かつ皮膚に種々のトラブルの発生が極めて少ない安全性の高い皮膚化粧料になる。
請求項（抜粋）：
下記成分(A)および(B)を必須成分として含有し、pH3.5〜7.0に調整してなる化粧料。記(A)p-ヒドロキシ桂皮酸もしくはその塩類または両者併用した成分(B)低級一価アルコールもしくは多価アルコールまたは両者併用した成分
IPC (6件)：
A61K 7/00 ,  A61K 7/06 ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/42 ,  A61K 7/48 ,  A61K 7/50
FI (8件)：
A61K 7/00 C ,  A61K 7/00 M ,  A61K 7/00 N ,  A61K 7/06 ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/42 ,  A61K 7/48 ,  A61K 7/50
Fターム (50件)：
4C083AA122 ,  4C083AB032 ,  4C083AB082 ,  4C083AB212 ,  4C083AB242 ,  4C083AB432 ,  4C083AC022 ,  4C083AC072 ,  4C083AC102 ,  4C083AC112 ,  4C083AC122 ,  4C083AC132 ,  4C083AC242 ,  4C083AC302 ,  4C083AC311 ,  4C083AC312 ,  4C083AC352 ,  4C083AC392 ,  4C083AC422 ,  4C083AC432 ,  4C083AC482 ,  4C083AC532 ,  4C083AC542 ,  4C083AC582 ,  4C083AC642 ,  4C083AC662 ,  4C083AC712 ,  4C083AC792 ,  4C083AD092 ,  4C083AD152 ,  4C083AD282 ,  4C083AD352 ,  4C083AD532 ,  4C083AD572 ,  4C083AD642 ,  4C083AD662 ,  4C083BB44 ,  4C083BB48 ,  4C083CC04 ,  4C083CC05 ,  4C083CC19 ,  4C083CC23 ,  4C083CC37 ,  4C083CC38 ,  4C083DD23 ,  4C083DD31 ,  4C083EE06 ,  4C083EE10 ,  4C083EE17 ,  4C083EE22
引用特許：
審査官引用 (1件)
  • 特開昭62-036305
引用文献：
審査官引用 (3件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM