特許

J-GLOBAL ID：200903038443427573

感光性フォトマスク材料及びフォトマスクの製造方法

発明者： 田中 ▲隆▼司 ,  鏡 健治
出願人/特許権者： 株式会社丸五技研 ,  オリエンタル写真工業株式会社
代理人 (1件)： 伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-144671
公開番号（公開出願番号）：特開平11-338158
出願日： 1998年05月26日
公開日（公表日）： 1999年12月10日
要約：

【要約】【課題】 フォトマスクの製造において、フォトマスク(エマルジョンマスク)とクロムブランクスを一体化し、フォトマスクの量産化と低コスト化を可能とすると共に、高精度のフォトマスク製造を可能にする【解決手段】 感光性フォトマスク材料1に関し、基板2上に、金属膜3と、放射線に感応する放射線感応性樹脂層4と、この放射線感応性樹脂層4が感応する放射線と異なる波長領域の光で感光可能な感光層5とを順次設けて構成する。

請求項（抜粋）：

基板上に、金属膜と、放射線に感応する放射線感応性樹脂層と、該放射線感応性樹脂層が感応する放射線と異なる波長領域の光で感光可能な感光層とを順次設けて成ることを特徴とする感光性フォトマスク材料。

IPC (3件)：

G03F 7/095 511 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/26 511

FI (3件)：

G03F 7/095 511 ,  G03F 1/08 B ,  G03F 7/26 511