特許
J-GLOBAL ID：200903038467583290
一軸磁気異方性薄膜作製法および装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
菅 隆彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-062978
公開番号（公開出願番号）：特開平5-267056
出願日： 1992年03月19日
公開日（公表日）： 1993年10月15日
要約：
【要約】【目的】例えば電気や光のスイッチが必要となる電気,光学機器,遠隔操作を必要とする医療機器,ロボット分野等、あらゆる分野に適用される磁場で駆動するマイクロアクチュエータの駆動部に供される一軸磁気異方性薄膜の作製法に於いて、μ角オーダからmm角オーダまでの広い範囲での面積に応じた、しかも大きな異方性を有する一軸磁気異方性薄膜を作製出来る様にする。【構成】可干渉な光源13から出た光の分割光を1ヶ所に集めて干渉させた光線aの干渉縞を基板1表面に照射し、基板1表面を干渉縞状に温度分布せしめつつ、密閉真空雰囲気中において蒸着あるいはスパッタ等に依って基板1上に干渉縞状に歪んだ磁性薄膜10を作製し、異方性を付与することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
可干渉な光源から出た光の分割光を1ヶ所に集めて干渉させた光線の干渉縞を基板表面に照射し、当該基板表面を前記干渉縞状に温度分布せしめつつ、密閉真空雰囲気中において蒸着あるいはスパッタ等に依って前記基板上に前記干渉縞状に歪んだ薄膜を作製し、異方性を付与することを特徴とする一軸磁気異方性薄膜作製法
IPC (2件)：
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