特許
J-GLOBAL ID：200903038475438445

高精密転写性ポリカ光学用成形材料、およびそれより形成された光ディスク基板

発明者：
安藤 正人

安藤 正人 について

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林 邦維

林 邦維 について

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西田 慎太郎

西田 慎太郎 について

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藤丸 滋樹

藤丸 滋樹 について


出願人/特許権者：
帝人化成株式会社

帝人化成株式会社 について


代理人 (1件)： 大島 正孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-139918
公開番号（公開出願番号）：特開2002-332400
出願日： 2001年05月10日
公開日（公表日）： 2002年11月22日
要約：
【要約】【課題】 熱安定性に優れ、かつ高精密転写性を有するポリカーボネート樹脂光学用成形材料およびそれからの光ディスク基板を提供する。【解決手段】 2,2-ビス-(4-ヒドロキシフェニル)プロパンを二価フェノール成分として得られた芳香族ポリカーボネート樹脂(PC-A)60〜99重量%と下記式[I]【化1】(但し、式中R1〜R4は、それぞれ独立して水素原子または炭素原子数1〜4の炭化水素基を示す)で表される化合物を二価フェノール成分とする芳香族ポリカーボネート樹脂であって、その末端停止剤の少なくとも5mol%が下記式[I]【化2】(但し、式中nは10〜40の整数である)で表されるアルキルフェノールであるアルキルフェノール末端芳香族ポリカーボネート樹脂(PC-M)1〜40重量%とを含有してなる混合樹脂組成物からなることを特徴とする高精密転写性ポリカ光学用成形材料。
請求項（抜粋）：
2,2-ビス-(4-ヒドロキシフェニル)プロパンを二価フェノール成分として得られた芳香族ポリカーボネート樹脂(PC-A)60〜99重量%と、下記式[I]【化1】(但し、式中R1〜R4は、それぞれ独立して水素原子または炭素原子数1〜4の炭化水素基を示す)で表される化合物を二価フェノール成分とし、かつ全末端の少なくとも5mol%が下記式[II]【化2】(但し、式中nは10〜40の整数を表す。)で表されるアルキルフェノールに基づくアルキルフェニル末端基を有する芳香族ポリカーボネート樹脂(PC-M)1〜40重量%とを含有してなる混合樹脂組成物からなることを特徴とする高精密転写性ポリカ光学用成形材料。
IPC (7件)：
C08L 69/00 ,  C08G 64/06 ,  C08J 5/00 CFD ,  G11B 7/24 526 ,  G11B 7/24 561 ,  G11B 7/24 ,  G11B 7/24 563
FI (9件)：
C08L 69/00 ,  C08G 64/06 ,  C08J 5/00 CFD ,  G11B 7/24 526 G ,  G11B 7/24 561 M ,  G11B 7/24 561 N ,  G11B 7/24 561 P ,  G11B 7/24 563 A ,  G11B 7/24 563 E
Fターム (35件)：
4F071AA50 ,  4F071AA81 ,  4F071AH19 ,  4F071BB02 ,  4F071BC01 ,  4J002CG011 ,  4J002CG012 ,  4J002FD070 ,  4J002GP00 ,  4J029AA09 ,  4J029AB02 ,  4J029AB07 ,  4J029AC01 ,  4J029AD01 ,  4J029AE05 ,  4J029BB04A ,  4J029BB05A ,  4J029BB09A ,  4J029BB12A ,  4J029BB13A ,  4J029BB16A ,  4J029BD08 ,  4J029FA07 ,  4J029HC01 ,  4J029HC02 ,  4J029HC05A ,  4J029JA091 ,  4J029JC031 ,  4J029JC091 ,  4J029JC631 ,  4J029KE09 ,  5D029KA07 ,  5D029WB11 ,  5D029WB17 ,  5D029WD30
引用特許：
審査官引用 (8件)
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