特許

J-GLOBAL ID：200903038475445891

光走査装置製造方法及び光走査装置並びに画像形成装置

発明者： 小嶋 晃
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (2件)： 武 顕次郎 ,  橘 昭成
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-162103
公開番号（公開出願番号）：特開2004-012550
出願日： 2002年06月03日
公開日（公表日）： 2004年01月15日
要約：

【課題】適用する走査光学系の光路長や副走査横倍率に応じて入射ミラーの副走査方向の回転位置精度を効果的に保つように入射ミラーの副走査方向位置決めスパンの寸法設定を可能にする。【解決手段】光源6と光源6の出射光を偏向するポリゴンミラー8の間に、光源6、ポリゴンミラー8の間の光路を折り返すための入射ミラーMを備える光走査装置において、以下の式を満足するようにする。L0/(L1+L2)>0.06mmここでL0:入射ミラーMの副走査方向の位置決めスパンL1:入射ミラーMの反射点からポリゴンミラー8までの光路長L2:ポリゴンミラー8から走査光学素子最終面までの光路長【選択図】 図8

請求項（抜粋）：

光源と前記光源の出射光を偏向する光偏向装置の間に、前記光源、光偏光装置の間の光路を折り返すための入射ミラーを備えるとともに、前記光偏光装置と被走査媒体の間に1つ以上の走査光学素子を備えた光走査装置の製造方法において、 L0を前記入射ミラーの副走査方向の位置決めスパン、L1を前記入射ミラーの反射点から前記光偏向装置までの光路長、L2を前記光偏向装置から前記走査光学素子最終面までの光路長としたときに、 L0/(L1+L2) を量産限界の寸法精度から規定して製造することを特徴とする光走査装置の製造方法。

IPC (6件)：

G02B26/10 ,  B41J2/44 ,  G02B7/198 ,  G03G15/04 ,  H04N1/036 ,  H04N1/113

FI (8件)：

G02B26/10 F ,  G02B26/10 B ,  G02B26/10 101 ,  G03G15/04 111 ,  H04N1/036 Z ,  G02B7/18 B ,  B41J3/00 D ,  H04N1/04 104A

Fターム (34件)：

2C362BA04 ,  2C362BA71 ,  2C362BA83 ,  2C362BA90 ,  2H043BC02 ,  2H045BA22 ,  2H045BA34 ,  2H045CA02 ,  2H045CA93 ,  2H045DA02 ,  2H076AB05 ,  2H076AB06 ,  2H076AB12 ,  2H076AB18 ,  2H076AB22 ,  2H076EA01 ,  5C051AA02 ,  5C051CA07 ,  5C051DB02 ,  5C051DB22 ,  5C051DB24 ,  5C051DC04 ,  5C051DC07 ,  5C051DE21 ,  5C051FA01 ,  5C072AA03 ,  5C072BA13 ,  5C072DA04 ,  5C072DA21 ,  5C072DA23 ,  5C072HA02 ,  5C072HA13 ,  5C072HB08 ,  5C072XA01