特許

J-GLOBAL ID：200903038484628826

X線による応力測定方法及び装置

発明者： 古田 啓
出願人/特許権者： 株式会社関西新技術研究所
代理人 (1件)： 三枝 英二 (外10名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-064932
公開番号（公開出願番号）：特開平11-258186
出願日： 1998年03月16日
公開日（公表日）： 1999年09月24日
要約：

【要約】【課題】 試料深さ方向に高い測定分解能を有し、大きなX線の侵入深さが得られる応力測定方法及び装置を提供する。【解決手段】 集中法により試料S内からの回折X線Dを検出し該試料内の応力を測定する方法であって、試料表面を横切る平面に沿い且つ試料内の測定箇所中心位置S0を通る焦点円C上に、X線源11からのX線Bを集光し、該集光箇所F通過後のX線を試料に照射し、前記照射X線に対する試料の回折角θ付近でモノクロメータを備えたX線検出器13を走査し前記測定箇所中心位置を通る焦点円上の結晶の回折X線を検出することを特徴とする応力測定方法及び当該方法を実施するための装置1。

請求項（抜粋）：

集中法により試料内からの回折X線を検出し該試料内の応力を測定する方法であって、試料表面を横切る平面に沿い且つ試料内の測定箇所中心位置を通る焦点円上に、X線源からのX線を集光し、該集光箇所通過後のX線を試料に照射し、前記照射X線に対する試料の回折角付近でモノクロメータを備えたX線検出器を走査し前記測定箇所中心位置を通る焦点円上の結晶の回折X線を検出することを特徴とする応力測定方法。