特許
J-GLOBAL ID:200903038485422822
アミンの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
田代 烝治 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-057164
公開番号(公開出願番号):特開2000-256279
出願日: 2000年03月02日
公開日(公表日): 2000年09月19日
要約:
【要約】【課題】 触媒消費量が少なく、二次反応の生起を大幅に回避し、良好な触媒バランスの設定を可能ならしめ、かつ不活性触媒分を良好に分離し得る、工業的に実施可能の、水素添加によるアミンの製造方法を提供すること。【解決方法】 少なくとも1個のニトロ基を含有する化合物を、触媒活性金属として少なくともニッケルを含有する担持触媒の存在下に水素添加してアミンを製造する方法であって、還元され、安定化された担持触媒が、30-80オングストローム(300-800nm)及び81-150オングストローム(810-1500nm)において最大値を有する二モードニッケル微結晶粒度分布を示すニッケル微結晶を含有し、還元され不動態化された状態において、60-80質量%のニッケル分及び0-20質量%のSiO2分、0-40質量%のZrO2分、0-4質量%のHfO2分を有し、かつ100°Cで更に1時間還元した後において少なくとも70%の還元度を有する触媒を使用することを特徴とする方法。
請求項(抜粋):
少なくとも1個のニトロ基を含有する少なくとも1種類の化合物を、触媒活性金属としてニッケルを、必要であれば少なくとも1種類のI、V、VI及び/又はVIII遷移族金属と共に含有する担持触媒の存在下において、水素と反応させることによりアミンを製造する方法であって、ZrO2、ZrO2-HfO2及び/又はSiO2-ZrO2及び/又はSiO2-ZrO2-HfO2を含有する担体上の、還元され、安定化された担持触媒が、30-80オングストローム及び81-150オングストロームにおいて最大値を有する二モードニッケル微結晶粒度分布を示すニッケル微結晶を含有し、還元され不動態化された状態において、60-80質量%のニッケル分、0-20質量%のSiO2分、0-40質量%のZrO2分、0-4質量%のHfO2分を有し、かつ100°Cで更に1時間還元した後において少なくとも70%の還元度を有する触媒を使用することを特徴とする方法。
IPC (5件):
C07C209/36
, B01J 23/755
, B01J 35/02
, C07C211/50
, C07B 61/00 300
FI (5件):
C07C209/36
, B01J 35/02 H
, C07C211/50
, C07B 61/00 300
, B01J 23/74 321 X
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