特許
J-GLOBAL ID：200903038503714976

ガスバリア性フィルムの製造方法

発明者：
上村 朋之

上村 朋之 について


出願人/特許権者：
日本合成化学工業株式会社

日本合成化学工業株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-152241
公開番号（公開出願番号）：特開2001-335926
出願日： 2000年05月24日
公開日（公表日）： 2001年12月07日
要約：
【要約】【課題】 ガスバリア性や透明性に優れたフィルムの製造方法を提供する。【解決手段】一対のターゲットを相互に対向させて設けてなるスパッタ装置内で、該装置内の不活性ガスの圧力を0.5Pa以下として、ターゲット間に電圧を印加させて、ターゲット間の空間部にターゲット原子が飛散したプラズマ空間を形成せしめ、ターゲット原子をフィルム上に5〜200nmの膜厚で被着させる。
請求項（抜粋）：
一対のターゲットを相互に対向させて設けてなるスパッタ装置内で、該装置内の不活性ガスの圧力を0.5Pa以下として、ターゲット間に電圧を印加させて、ターゲット間の空間部にターゲット原子が飛散したプラズマ空間を形成せしめ、ターゲット原子をフィルム上に5〜200nmの膜厚で被着させることを特徴とするガスバリア性フィルムの製造方法。
IPC (4件)：
C23C 14/34 ,  B32B 9/00 ,  C08J 7/06 CER ,  C08L 23:00
FI (5件)：
C23C 14/34 D ,  C23C 14/34 R ,  B32B 9/00 A ,  C08J 7/06 CER Z ,  C08L 23:00
Fターム (33件)：
4F006AA12 ,  4F006AA13 ,  4F006AA35 ,  4F006AA38 ,  4F006AB73 ,  4F006BA05 ,  4F006CA07 ,  4F006DA01 ,  4F100AA17A ,  4F100AA18 ,  4F100AA19 ,  4F100AA20 ,  4F100AK01B ,  4F100AK42 ,  4F100BA02 ,  4F100EH662 ,  4F100EJ602 ,  4F100GB17 ,  4F100GB23 ,  4F100GB66 ,  4F100JB16B ,  4F100JD02 ,  4F100JN01 ,  4F100YY00A ,  4K029AA11 ,  4K029AA25 ,  4K029BA46 ,  4K029BC00 ,  4K029CA06 ,  4K029DC02 ,  4K029DC32 ,  4K029EA01 ,  4K029EA03
引用特許：
審査官引用 (6件)
  • 透明プラスチック成形品
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-053091   出願人：日本合成ゴム株式会社
  • 特開平3-162571
  • 特開平1-262610
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