特許
J-GLOBAL ID：200903038518303026
投影光学系の結像特性計測方法、及び該方法を使用する投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-087874
公開番号（公開出願番号）：特開平10-281934
出願日： 1997年04月07日
公開日（公表日）： 1998年10月23日
要約：
【要約】【課題】 投影光学系の収差等の結像特性を短時間に、且つ高精度に計測する。【解決手段】 通常は、露光光ILのもとでレチクルRのパターン像が投影光学系PLを介してウエハW上に投影される。投影光学系PLの結像特性の計測時には、フライアイレンズ10の射出面に小さい開口の開口絞り13Dを設定することで、レチクルRを垂直入射光で照明する。更に、投影光学系PLの瞳面の近傍にレチクルRからの±1次回折光のみを通過させる遮光フィルタ36bを設置した状態で、レチクルR上の各評価用マーク31の像を投影光学系PLを介してウエハステージ23上に投影し、ウエハステージ23上の開口パターン25X等よりなる空間像計測系を介してそれらの投影像の位置を検出することで、投影光学系PLの所定の収差を計測する。
請求項（抜粋）：
第1面のパターンの像を第2面上に投影する投影光学系の結像特性計測方法において、前記第1面上に所定パターンを配置し、前記投影光学系内の前記第1面に対する光学的フーリエ変換面上で部分的に結像光束を遮光した状態で、前記所定のパターンの像を前記第2面上に投影して、該投影された像の位置を計測し、該計測された像の位置ずれ量より前記投影光学系の所定の結像特性を計測することを特徴とする投影光学系の結像特性計測方法。
IPC (4件)：
G01M 11/02
, G01B 11/00
, G03F 7/20 521
, H01L 21/027
G01M 11/02 B
, G01B 11/00 G
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 515 D
