特許
J-GLOBAL ID：200903038528475674
無端環状導波管を有するマイクロ波導入装置及び 該装置を備えたプラズマ処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
荻上 豊規
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-319223
公開番号（公開出願番号）：特開平5-345982
出願日： 1992年11月05日
公開日（公表日）： 1993年12月27日
要約：
【要約】【目的】マイクロ波の供給対象である真空容器周辺からマイクロ波を均一にして効率的に該真空容器へ導入することを可能にする改善されたマイクロ波導入装置及び該マイクロ波導入装置を備えたプラズマ処理装置を提供すること。【構成】複数のスロットを備えた無端環状導波管を有するマイクロ波導入装置であって、前記複数のスロットは、該環状導波管の内側に所定の間隔で穿孔されて設けられていることを特徴とするマイクロ波導入装置及び該マイクロ波導入装置を備えたプラズマ処理装置。【効果】マイクロ波を電磁波のまま真空容器内に周辺から導入できるので、均一にして効率的にマイクロ波を該真空容器内に導入することができる。
請求項（抜粋）：
複数のスロットを備えた無端環状導波管を有するマイクロ波導入装置であって、該環状導波管は、マイクロ波電源に接続するマイクロ波導入部を有し、前記複数のスロットは、該環状導波管の内側に所定の間隔で穿孔されて設けられていることを特徴とするマイクロ波導入装置。
IPC (5件)：
C23C 16/50
, C23F 4/00
, H01L 21/205
, H01L 21/31
, H05H 1/48
