特許

J-GLOBAL ID：200903038547018632

インクジエツト記録ヘツドの製造方法

発明者： 小竹 直志
出願人/特許権者： 富士ゼロツクス株式会社
代理人 (1件)： 石井 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-202353
公開番号（公開出願番号）：特開平5-024204
出願日： 1991年07月17日
公開日（公表日）： 1993年02月02日
要約：

【要約】【目的】 複数回のエッチング工程によって、正確な形状のインクリザーバ部を形成することができるインクジェット記録ヘッドの製造方法を提供する。【構成】 (A)図は、(100)結晶面を表面に持つシリコン基板上に形成されたマスクパターンの一例の平面図である。第1回のエッチングは、5aを開口部とするSi3 N4 膜5のエッチングマスクにより行なわれ、第2回のエッチングは、4aを開口部とするSiO2 膜4のエッチングマスクにより行なわれる。開口部4aの寸法を、開口部5aより小さくしておくことにより、インクリザーバ部2の開口部の矩系形状を非常に精度良く形成できる。

請求項（抜粋）：

(100)結晶面を表面に持つシリコン基板に、異方性エッチングによってチャンネル部とインクリザーバ部を形成したチャンネル基板と、ヒーターと通電電極を有するヒーター基板とを接合してなるインクジェット記録ヘッドの製造方法において、前記インクリザーバ部は、異なる開口寸法の複数のエッチングマスクを用いて、複数回のエッチングによって形成されることを特徴とするインクジェット記録ヘッドの製造方法。