特許
J-GLOBAL ID：200903038547783711
無電解めっき方法およびその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-061131
公開番号（公開出願番号）：特開2000-256865
出願日： 1999年03月09日
公開日（公表日）： 2000年09月19日
要約：
【要約】【課題】 円盤形状のみならず曲率を持つような形状の被めっき物であっても、ピット、ピンホールおよびざらつき等の欠陥のないニッケルめっき被膜を成膜できる、無電解ニッケルめっき方法およびその装置を得る。【解決手段】 被めっき物7の有効めっき面をめっき液8中で下向きにし、さらに被めっき物7を自転もしくは公転させ、さらに角度調節装置6で回転軸を傾斜させて、めっき反応時に発生する水素ガスを一箇所に滞留させることなく、逃がし取り除く。
請求項（抜粋）：
めっき浴中で被めっき物のめっき面をめっき液面に対して下向きに設定し、被めっき物を自転もしくは公転させることを特徴とする無電解ニッケルめっき方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 18/31 E
, G02B 5/08 C
2H042DA01
, 2H042DA10
, 2H042DC01
, 2H042DC11
, 4K022AA02
, 4K022AA41
, 4K022BA14
, 4K022DA01
, 4K022DB14
, 4K022DB15
