特許
J-GLOBAL ID：200903038551228811
膜厚測定方法とその装置およびそれを用いたエッチング装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大胡 典夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-162629
公開番号（公開出願番号）：特開2000-346620
出願日： 1999年06月09日
公開日（公表日）： 2000年12月15日
要約：
【要約】【課題】 測定対象とする周期信号を乱して測定精度を低下させる特定の膜表面からの反射光に起因する干渉周期成分を排除し、膜厚変化の測定精度を向上させた高精度な膜厚の測定方法と装置を提供する。【解決手段】 最上面薄膜と空気の境界に対して、光源31からブリュースタ角を満たす入射角で光を入射させ、特定膜面である最上面の薄膜上では干渉波形の変調の原因となる反射光を全く生じさせないで光センサ34で受光する。
請求項（抜粋）：
光源からの測定光を測定対象の膜に照射し、この膜からの干渉光を光センサで受光し、それを用いて前記膜の時間的変化を測定する膜厚測定方法において前記測定光は、前記膜に対してブリュースター角を満足していることを特徴とする膜厚測定方法。
Fターム (10件)：
2F065AA30
, 2F065BB17
, 2F065BB22
, 2F065FF51
, 2F065HH12
, 2F065JJ08
, 2F065LL04
, 2F065QQ13
, 2F065QQ30
, 2F065UU07
