特許

J-GLOBAL ID：200903038552663422

重合反応制御装置

発明者： 上和野 満雄 ,  山本 一己
出願人/特許権者： 上和野 満雄 ,  綜研化学株式会社
代理人 (1件)： 清水 敬一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-273734
公開番号（公開出願番号）：特開平7-126304
出願日： 1993年11月01日
公開日（公表日）： 1995年05月16日
要約：

【要約】【目的】 重合反応制御装置の反応槽内の温度分布を均一にする。【構成】 この発明による重合反応制御装置は、反応槽1と、反応槽1内に回転可能に設けられた撹拌翼2と、反応槽1内の温度を検出する温度センサ4と、温度センサ4からの出力を演算処理するコンピュータ8と、コンピュータ8からの出力に基づいて反応槽1内の温度を制御する複数の還流コイル5及びジャケット7を備え、温度センサ4は反応槽1の深さ及び半径方向に複数個設置され、複数の還流コイルは深さ方向の複数の温度センサ4に対応する反応槽1内の位置に各々設けられ、複数のジャケット7は複数の還流コイル5に対応する反応槽1外壁の位置に各々設けられる。複数の温度センサ4の出力から各補正量をコンピュータ8にて各々演算し、この各補正量に基づいて複数の還流コイル5及びジャケット7の個々に通流すべき媒体の流量を個別に制御するので、反応槽1内全体の温度分布を均一にすることができる。

請求項（抜粋）：

反応槽と、反応槽内に回転可能に設けられた撹拌翼と、反応槽内の温度を検出する温度センサと、温度センサからの出力を演算処理する演算手段と、演算手段からの出力に基づいて反応槽内の温度を制御する槽内温度制御手段とを備えた重合反応制御装置において、温度センサは反応槽の深さ方向及び半径方向に複数個設置され、槽内温度制御手段は、反応槽の深さ方向に設けられた複数の温度センサに対応する反応槽内の位置に各々設けられた複数の還流コイルと、複数の還流コイルに対応する反応槽外壁の位置に各々設けられた複数のジャケットとを有することを特徴とする重合反応制御装置。