特許
J-GLOBAL ID：200903038571130486
電子材料洗浄方法及び洗浄装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤巻 正憲
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-237734
公開番号（公開出願番号）：特開平8-102456
出願日： 1994年09月30日
公開日（公表日）： 1996年04月16日
要約：
【要約】【目的】 導波路の形状を高精度で制御できて特性が安定していると共に、導波光を幅方向に強く閉じこめることができて小型化及び集積化に適し、更に低電圧で大きな屈折率変化が得られる導波路型光制御素子を提供する。【構成】 基板1上に形成され基板1より屈折率が高い高屈折率層2と、この高屈折率層2に設けられ光導波路3を画定する溝4とを有する。この溝に導電体を埋め込んで電極を形成し、この電極に電圧を印加して導波光の分岐・合流又は変調を行う。
請求項（抜粋）：
洗浄すべき部材に第1電位を印加すると共に、前記部材に対向して配置された電極に前記第1電位と同極性で且つ絶対値が前記第1電位より大きい第2電位を印加しつつ洗浄液により前記部材を洗浄することを特徴とする電子材料洗浄方法。
IPC (3件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
, B08B 3/10
