ネガ型レジスト組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小栗昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-254879
公開番号（公開出願番号）：特開2003-066596
出願日： 2001年08月24日
公開日（公表日）： 2003年03月05日
要約：

【要約】【課題】 KrFエキシマレーザー、電子線又はX線の使用に対して感度、解像性、パターン形状及びラインエッジラフネスの特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 (A)アルカリ可溶性ポリマー、(B)酸の作用により(A)のアルカリ可溶性ポリマーと架橋する架橋剤及び(D)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、特定のスルホンイミド化合物を含有するネガ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)アルカリ可溶性ポリマー、(B)酸の作用により(A)のアルカリ可溶性ポリマーと架橋する架橋剤及び(D)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、下記一般式(a)で表されるスルホンイミド化合物を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。【化1】一般式(a)中、R1a〜R3aは、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基又はヘテロ原子を含む芳香族基を表す。

IPC (4件)：

G03F 7/004 503 , C08F 12/22 , G03F 7/038 601 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/004 503 A , C08F 12/22 , G03F 7/038 601 , H01L 21/30 502 R

Fターム (66件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025BE00 , 2H025CB08 , 2H025CB14 , 2H025CB16 , 2H025CB17 , 2H025CB41 , 2H025CC17 , 2H025CC20 , 2H025FA17 , 4J100AB00Q , 4J100AB00R , 4J100AB02Q , 4J100AB02R , 4J100AB07P , 4J100AB07Q , 4J100AB08R , 4J100AB09Q , 4J100AB09R , 4J100AB10Q , 4J100AJ02R , 4J100AL03Q , 4J100AL03R , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL09Q , 4J100AL09R , 4J100AM02Q , 4J100AM02R , 4J100AM21P , 4J100AQ01Q , 4J100BA03P , 4J100BA03Q , 4J100BA04P , 4J100BA04Q , 4J100BA10P , 4J100BA10Q , 4J100BA14P , 4J100BA16Q , 4J100BA29Q , 4J100BA37P , 4J100BA40P , 4J100BA40Q , 4J100BA41Q , 4J100BA55Q , 4J100BB01P , 4J100BC01P , 4J100BC01Q , 4J100BC43P , 4J100BC43Q , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100CA31 , 4J100DA01 , 4J100DA04 , 4J100DA39 , 4J100HC10 , 4J100HC38 , 4J100JA38

前のページに戻る