特許
J-GLOBAL ID:200903038586137304

位置ずれ補正方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 立石 篤司 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-318547
公開番号(公開出願番号):特開平9-139340
出願日: 1995年11月13日
公開日(公表日): 1997年05月27日
要約:
【要約】【課題】 基板の変形に起因する各投影像の位置ずれを正確に補正する。【解決手段】 基板4のY方向の伸縮に起因する部分領域の像P1〜5の位置ずれを、投影光学系5〜9の倍率と平行平板ガラス12a〜12eの光軸に対する傾きを変更することによって、補正した後、この補正後の像の位置ずれを投影光学系相互のキャリブレーション手段(10A、10B、11、干渉計I1 、I2、I3 、光電検出器等)を用いて正確に検出することにより、位置ずれ補正が十分に行なわれているか否かを確認することができ、この確認の結果、補正が不十分な場合にはこの位置ずれ量が十分小さくなるように各投影光学系の倍率補正及び各投影光学系により基板4上に投影される像のシフトの少なくとも一方を再実行する。
請求項(抜粋):
照明光学系からの光束によってマスク上のパターン領域の異なる部分領域をそれぞれ照明し、前記各部分領域の像を当該各部分領域に対応して設けられた複数の投影光学系のそれぞれを介して基板上の被露光領域に投影するとともに、前記マスクと前記基板とを前記投影光学系の投影倍率に応じた速度比で所定の走査方向に前記投影光学系に対して移動することによって前記マスク上のパターン領域の全面を前記基板上に露光する走査型露光装置に用いられる、前記基板上の前記各部分領域の像の位置ずれ補正方法であって、前記マスク上のアライメントマークと前記基板上のアライメントマークの位置関係に基づいて前記基板の変形量の内少なくとも前記走査方向に直交する方向の伸縮量を検出する第1工程と;前記第1工程の検出結果に基づいて前記各投影光学系の倍率補正と、前記各投影光学系により前記基板上に投影される像のシフトとを実行する第2工程と;しかる後、前記投影光学系相互のキャリブレーション手段を用いて相互に隣接する前記部分領域の像同士の位置ずれ及びオーバーラップ量が所定の許容範囲内にあるか否かを確認する第3工程と;許容範囲内にない場合に、前記位置ずれ及びオーバーラップ量がともに許容範囲内となるように前記各投影光学系の倍率補正及び前記各投影光学系により前記基板上に投影される像のシフトの少なくとも一方を再実行する第4工程とを含む位置ずれ補正方法。
IPC (2件):
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521
FI (6件):
H01L 21/30 518 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 522 A ,  H01L 21/30 525 D ,  H01L 21/30 525 L ,  H01L 21/30 525 W
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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