配向処理用ローラ、配向処理装置、配向処理用ローラの製造方法および配向処理用ローラを用いた配向処理方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：西教圭一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-194422
公開番号（公開出願番号）：特開平8-062603
出願日： 1994年08月18日
公開日（公表日）： 1996年03月08日
要約：

【要約】【目的】配向処理すべき基板表面に悪影響を与えず、液晶分子をより均一に配向させる。【構成】配向処理用ローラ12はローラ本体19と、前記ローラ本体19の外周面を覆い、微細な凹凸状の表面を有する金属膜20とを含んで構成される。配向処理用ローラ12は、前記ローラ本体の外周面を鏡面処理した後、当該外周面に金属膜を成膜し、さらに金属膜表面に凹凸を形成することによって作成される。処理基板18を、配向処理用ローラ12の内部に配置される加熱装置15によって加熱しながら、当該処理基板18を搬送ローラと前記配向処理用ローラ12との間に挟持し、処理基板18の表面に配向処理用ローラ12表面の凹凸を転写することによって配向処理が施される。

請求項（抜粋）：

ローラ本体と、前記ローラ本体の外周面を覆い、微細な凹凸状の表面を有する金属膜とを含むことを特徴とする配向処理用ローラ。

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開昭57-192926
特開昭62-049324
特開平4-172320

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