特許
J-GLOBAL ID:200903038610426940
連続イオンプレーティング装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
堀田 実 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-299569
公開番号(公開出願番号):特開平9-143698
出願日: 1995年11月17日
公開日(公表日): 1997年06月03日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 鋼板をシールライン(アース電位)から絶縁することなくアース(接地)した状態で、イオンプレーティングができる連続イオンプレーティング装置を提供する。【解決手段】 被処理材1をアース電位としルツボ15を+電位に印加するバイアス電源18を備え、これにより、ルツボから被処理材に向かう電界を形成する。また、被処理材1に対向してルツボ近傍に設けられたバイアス電極22と、被処理材をアース電位としバイアス電極を+電位に印加するバイアス電源18を備える。更に、成膜室16内に成膜室から絶縁され、かつルツボ15を囲むバイアス壁20を備え、バイアス壁20をバイアス電源18により+電位に印加する。
請求項(抜粋):
連続的に走行する被処理材に材料を蒸着するための真空成膜室と、該成膜室内に設置され材料を収納するルツボと、ルツボ内の材料を蒸発させる蒸発装置と、蒸発した材料をイオン化させるイオン化装置と、を備えた連続イオンプレーティング装置において、被処理材をアース電位としルツボを+電位に印加するバイアス電源を備え、これにより、ルツボから被処理材に向かう電界を形成する、ことを特徴とする連続イオンプレーティング装置。
IPC (2件):
FI (2件):
C23C 14/32 C
, C23C 14/56 A
引用特許:
審査官引用 (4件)
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特開昭62-080267
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特開昭64-025982
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特開昭62-030315
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