特許
J-GLOBAL ID：200903038612459188
液晶マスク式レーザマーキング方法及びその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
秋本 正実
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-010071
公開番号（公開出願番号）：特開平5-200570
出願日： 1992年01月23日
公開日（公表日）： 1993年08月10日
要約：
【要約】【目的】 大面積のパターンのマーキングを鮮明に且つ小出力のレーザ光源と小型の液晶マスクで実現する。【構成】 マーキングするマスクパターンをサブパターン9a,9b,9cに分割する。分割するときに、マスクパターン中の1文字が複数のサブパターンにまたがらないように分割線24,25を決め、更に、各サブパターンの基準点P1,P2,P3の座標を求め、各サブパターンの形状と位置の情報を記憶装置に格納する。マーキングするときは、サブパターン9aを液晶マスクに表示しレーザ光で照射してワーク上に転写し、次にサブパターン9bを液晶マスクに表示しレーザ光で照射してワーク上に転写する。このとき、サブパターン9a,9bの基準点P1,P2の位置情報に基づいてレーザ光の経路中に設けられたガルバノミラーの傾斜角を制御して、サブパターン9a,9bの転写位置がワーク上で連続するようにする。
請求項（抜粋）：
任意のパターンを表示した液晶マスクにレーザ光を照射し、透過レーザ光をマーキング対象物表面に集光して前記パターンを転写する液晶マスク式レーザマーキング方法において、前記パターンを複数のサブパターンに分割し、各サブパターンを順次同一の液晶マスクに表示しマーキング対象物表面に転写することで前記パターンを完成させることを特徴とする液晶マスク式レーザマーキング方法。
IPC (3件)：
B23K 26/00
, B23K 26/06
, G02F 1/13 505
