特許
J-GLOBAL ID:200903038614504830

耐プラズマエロージョン性に優れる溶射皮膜被覆部材およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 小川 順三 ,  中村 盛夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-260294
公開番号(公開出願番号):特開2007-070175
出願日: 2005年09月08日
公開日(公表日): 2007年03月22日
要約:
【課題】 ハロゲン化合物を含む環境などの腐食食作用による損傷が少なく、かつ、その腐食生成物が環境汚染原因となって、半導体加工装置の品質低下、生産コストの増大を招くことのない各種半導体装置用溶射皮膜被覆部材を得る。【解決手段】 基材の表面に形成したAl2O3、Y2O3またはAl2O3-Y2O3複酸化物などからなる溶射皮膜の表面を、電子ビーム照射処理によって、パーティクル等の付着、堆積特性に優れ、その再飛散を有効に防止できる耐プラズマエロージョン性に優れた部材とその製造方法。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
基材の表面を覆うセラミック溶射皮膜の最表層部が、電子ビーム照射層であることを特徴とする耐プラズマエロージョン性に優れる溶射皮膜被覆部材。
IPC (2件):
C04B 41/87 ,  C04B 41/90
FI (2件):
C04B41/87 J ,  C04B41/90 B
引用特許:
出願人引用 (16件)
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審査官引用 (9件)
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引用文献:
審査官引用 (3件)
  • JIS使い方シリーズ 溶射技術マニュアル, 19981030, 第1版 第1刷, p.33
  • JIS使い方シリーズ 溶射技術マニュアル, 19981030, 第1版 第1刷, p.33
  • JIS使い方シリーズ 溶射技術マニュアル, 19981030, 第1版 第1刷, p.33

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