特許
J-GLOBAL ID：200903038642113324

計測装置、リソグラフィ装置、プロセス装置、計測方法、及びデバイス製造方法。

発明者：
ヘンリクス ペトルス マリア ペレマンス

ヘンリクス ペトルス マリア ペレマンス について

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アリー ジェフリー デン ボエフ

アリー ジェフリー デン ボエフ について

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ヴィルヘルムス マリア コルベイ

ヴィルヘルムス マリア コルベイ について

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ハンス ファン デル ラーン

ハンス ファン デル ラーン について


出願人/特許権者：
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. について


代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  森 徹 ,  吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-178938
公開番号（公開出願番号）：特開2007-010666
出願日： 2006年06月29日
公開日（公表日）： 2007年01月18日
要約：
【課題】感度及び/又は動作速度を改善した計測装置を提供すること。【解決手段】基板上の微細構造のパラメータを測定する計測装置であって、測定ビームを生成するように構成されたスーパコンティニューム光源と、測定ビームを基板上に送るように構成された光学系と、構造によって反射された、かつ/又は、回折された放射を検出するセンサとを備える計測装置。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
基板上の微細構造のパラメータを測定する計測装置であって、測定ビームを生成するように構成されたスーパコンティニューム光源と、前記測定ビームを前記基板上に送るように構成された光学系と、前記構造によって反射された、かつ/又は、回折された放射を検出するセンサとを備える計測装置。
IPC (2件)：
G01B 11/00 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G01B11/00 H ,  H01L21/30 502V ,  G01B11/00 G
Fターム (32件)：
2F065AA22 ,  2F065AA24 ,  2F065BB02 ,  2F065CC19 ,  2F065CC20 ,  2F065DD04 ,  2F065DD06 ,  2F065FF01 ,  2F065FF04 ,  2F065FF09 ,  2F065FF48 ,  2F065FF52 ,  2F065GG04 ,  2F065GG08 ,  2F065HH04 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL02 ,  2F065LL04 ,  2F065LL22 ,  2F065LL32 ,  2F065LL33 ,  2F065LL42 ,  2F065LL46 ,  2F065LL50 ,  2F065LL67 ,  2F065NN05 ,  2F065NN08 ,  2F065PP12 ,  2F065UU01 ,  2F065UU02
引用特許：
審査官引用 (4件)
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