加熱体を有する装置の冷却装置と冷却方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：宮田金雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-154572
公開番号（公開出願番号）：特開2001-330352
出願日： 2000年05月25日
公開日（公表日）： 2001年11月30日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】加熱装置をメンテナンスなどの目的で冷却する場合、内部の塵などを飛散させず、冷却完了までの時間を短くする。【解決手段】加熱室と前記加熱室に設置された熱源を備える加熱部と、パレットを前記加熱部内に搬入する駆動装置を有する加熱装置において、前記パレット内部に形成された通路に水を供給する水供給手段と、前記通路から水を排出させる水排出手段と、前記加熱室の温度を検出する温度検出手段と、この検出された温度に基いて前記駆動装置及び前記水供給手段を制御する制御手段を有し、前記パレットを前記熱源に密着させて冷却する。

請求項（抜粋）：

加熱室と前記加熱室に設置された熱源を備える加熱部と、パレットを前記加熱部内に搬入する駆動装置を有する加熱装置において、前記パレット内部に形成された通路に水を供給する水供給手段と、前記通路から水を排出させる水排出手段と、前記加熱室の温度を検出する温度検出手段と、この検出された温度に基いて前記駆動装置及び前記水供給手段を制御する制御手段を有することを特徴とする加熱装置。

IPC (3件)：

F25D 9/00 , C23C 14/50 , C23C 16/46

FI (3件)：

F25D 9/00 B , C23C 14/50 E , C23C 16/46

Fターム (22件)：

3L044AA01 , 3L044AA02 , 3L044AA03 , 3L044AA04 , 3L044BA06 , 3L044CA12 , 3L044DB01 , 3L044GA02 , 3L044HA01 , 3L044JA01 , 3L044KA02 , 3L044KA04 , 4K029DA08 , 4K029EA00 , 4K029EA08 , 4K029KA02 , 4K030GA13 , 4K030JA10 , 4K030KA23 , 4K030KA26 , 4K030KA39 , 4K030KA41

引用特許：

審査官引用 (8件)

半導体膜形成装置、半導体膜の製造方法及び光起電力素子の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-044795 出願人：キヤノン株式会社
スパッタ装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-350881 出願人：日本電気株式会社
基板温度制御装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-076399 出願人：三菱電機株式会社

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