特許

J-GLOBAL ID：200903038646342468

半導体露光方法およびその装置

発明者： 田中 浩
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-022056
公開番号（公開出願番号）：特開平5-190419
出願日： 1992年01月10日
公開日（公表日）： 1993年07月30日
要約：

【要約】【目的】 ステッパのオートフォーカス機構の測定誤差を高精度で検出して自動的に補正する。【構成】 オートフォーカス機構をもつステッパSによって、検査用のウエハ4に検査用パターンを露光、焼付けた後、検査用ウエハ処理装置Kのディベロッパーによって現像する。現像されたウエハ4を再びステッパSに搭載して、アライメント用のミラー74a,74bをレチクル2の窓の上方へ移動させ、アライメント光源7の照明光によってウエハ4の検査用パターンを照射し、第1のCCDカメラ75によってその画像を得る。すべての検査用パターンの各検査用マークの画像を得て制御装置Cによって画像処理を行い、各検査用マークの画像の評価値から、露光時のウエハ4の表面の焦点ずれを検出し、これに基づいて前記オートフォーカス機構の補正値を制御装置Cに記憶させる。

請求項（抜粋）：

照明光によって照射された基板の反射光を受光して前記基板位置合わせマークの画像を得る撮像手段と、縮小投影レンズ系の焦平面に対する前記基板の面位置を測定する測定手段とを有するステッパを用いる半導体露光方法であって、前記ステッパによって検査用パターンを検査用基板に露光、焼付ける工程と、焼付けられた検査用パターンを現像する工程と、現像された検査用パターンの画像を前記撮像手段によって得る工程と、得られた画像から前記検査用基板の露光時の前記測定手段の測定誤差を算出して制御手段に記憶させる工程とからなり、以後の前記ステッパによる基板の露光時に、前記測定手段の測定値が、前記制御手段に記憶された測定誤差に基づいて補正されることを特徴とする半導体露光方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G05D 3/00

FI (4件)：

H01L 21/30 311 M ,  H01L 21/30 301 V ,  H01L 21/30 301 W ,  H01L 21/30 311 N