特許
J-GLOBAL ID:200903038661105278

金属表面へのフッ素系重合体薄膜形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 黒田 泰弘
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-119975
公開番号(公開出願番号):特開平11-342371
出願日: 1998年04月14日
公開日(公表日): 1999年12月14日
要約:
【要約】【課題】表面処理皮膜を有する金属製品の表面に、確実かつ強固にフッ素重合体膜を形成することができ、耐摩耗性、耐食性、滑り性、電気絶縁性、他物付着防止性などの性質を大幅に向上することができる方法を提供する。【解決手段】金属の表面にポア、孔、凹凸、割れなどの隙間を有する表面処理皮膜を施し、この表面処理皮膜にフルオロカーボン鎖を有するフッ素系モノマーを含浸させ、次いでこの表面処理膜に低エネルギー電子線を照射することによりフッ素の重合体薄膜を成膜させる。
請求項(抜粋):
金属の表面に施されたポア、孔、凹凸、割れなどの隙間を有する表面処理皮膜にフルオロカーボン鎖を有するフッ素系モノマーを含浸させ、次いでこの表面処理膜に低エネルギー電子線を照射することによりフッ素の重合体薄膜を成膜することを特徴とする金属表面へのフッ素系重合体薄膜を形成する方法。
IPC (8件):
B05D 7/14 ,  B05D 7/24 301 ,  B05D 7/24 302 ,  B32B 15/08 102 ,  C23C 28/00 ,  C25D 11/18 306 ,  C25D 11/30 ,  C09D 4/02
FI (8件):
B05D 7/14 Z ,  B05D 7/24 301 T ,  B05D 7/24 302 L ,  B32B 15/08 102 B ,  C23C 28/00 C ,  C25D 11/18 306 A ,  C25D 11/30 ,  C09D 4/02
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 特開平3-146176
  • 特公昭47-051209
  • 特開昭56-021665

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