特許
J-GLOBAL ID:200903038667805727
プラズマディスプレイパネルの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-156208
公開番号(公開出願番号):特開平9-320458
出願日: 1996年05月28日
公開日(公表日): 1997年12月12日
要約:
【要約】【課題】 プラズマディスプレイパネルの製造方法であって、表面平滑性に優れ、膜厚ムラのない誘電体層を形成し、表示動作の安定化を図る製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】 ガラス基板上に形成された電極層を放電空間に対して被覆する誘電体層を備えたプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、電極層を覆うようにガラス基板上に未硬化状態の厚さが15〜50μmであるドライガラスペーストフィルムを加熱・加圧して積層する工程と、積層されたドライガラスペーストフィルムを焼成して誘電体層を形成する工程とを含むことを特徴とする。また、ドライガラスペーストフィルムは、比誘電率が8以下のアルカリ系低融点ガラスを含み、電極層は透明導電膜と金属膜の積層膜からなり、ドライガラスペーストフィルムの積層工程の前に電極層を非アルカリ系の低融点ガラスを含むドライガラスペーストフィルムを加熱・加圧して被覆した後焼成して電極保護層を形成する工程を含むことを特徴とする。
請求項(抜粋):
ガラス基板上に形成された電極層を放電空間に対して被覆する誘電体層を備えたプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前記電極層を覆うように前記ガラス基板上に未硬化状態の厚さが15〜50μmであるドライガラスペーストフィルムを加熱・加圧して積層する工程と、前記積層されたドライガラスペーストフィルムを焼成して誘電体層を形成する工程とを含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
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