特許

J-GLOBAL ID：200903038673971736

基板の現像処理方法および装置

発明者： 美作 昌宏
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 間宮 武雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-188819
公開番号（公開出願番号）：特開平10-020508
出願日： 1996年06月28日
公開日（公表日）： 1998年01月23日
要約：

【要約】【課題】 基板の表面に形成されたフォトレジスト膜の現像時間を基板上の各位置でほぼ等しくし、現像むらの発生が防止され、現像後のレジストパターンの線幅の面内寸法均一性が得られる方法を提供する。【解決手段】 基板Wの直径と同等以上の吐出幅を有する現像液供給ノズル14を静止状態の基板の表面と平行に基板の一端の現像液供給開始位置から他端の現像液供給終了位置まで直線的に移動させ、基板の表面全体に現像液を供給して、所定時間経過した後に、基板の直径と同等以上の吐出幅を有するリンス液供給ノズル16を静止状態の基板の表面と平行に基板の一端の現像液供給開始位置から他端の現像液供給終了位置まで直線的に移動させ、基板の表面全体に純水を供給して、基板の表面に形成されたフォトレジスト膜の現像を停止させる。

請求項（抜粋）：

基板の直径もしくは幅と同等以上の吐出幅を有する現像液供給ノズルを、水平姿勢に保持され静止した状態の基板の表面と平行に基板の一端の現像液供給開始位置から他端の現像液供給終了位置まで直線的に移動させ、現像液供給ノズルから基板の表面全体に現像液を供給して、基板の表面に形成されたフォトレジスト膜を現像する基板の現像処理方法において、前記現像液供給ノズルから基板の表面全体に現像液が供給されて所定時間経過した後に、基板の直径もしくは幅と同等以上の吐出幅を有するリンス液供給ノズルを、水平姿勢に保持され静止した状態の前記基板の表面と平行に基板の一端の前記現像液供給開始位置から他端の前記現像液供給終了位置まで直線的に移動させ、リンス液供給ノズルから基板の表面全体にリンス液を供給して、基板の表面に形成されたフォトレジスト膜の現像を停止させることを特徴とする基板の現像処理方法。

IPC (2件)：

G03F 7/30 501 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/30 501 ,  H01L 21/30 569 F ,  H01L 21/30 569 C