特許
J-GLOBAL ID:200903038693697479

基板上に窓部の塗膜と枠部の機能性塗膜を形成する方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 久保山 隆 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-183794
公開番号(公開出願番号):特開平7-035918
出願日: 1993年07月26日
公開日(公表日): 1995年02月07日
要約:
【要約】 (修正有)【目的】 複数の導電性回路を表面に有する透明基板上に、その導電性回路上に位置する複数の窓部の塗膜と、その窓部以外の部分を埋める枠部の機能性(例えば、遮光性)を有する塗膜とを精度良く形成する方法を提供する。【構成】 導電性回路を有する透明基板全面に、ポジ型又はネガ型フォトレジストを塗布し、塗膜の表面に、次の現像工程において窓部の部分を覆わず枠部の部分を覆う塗膜を与えるようなパターンを有するマスクを重ねて、露光現像し、枠部の部分の塗膜を熱処理する。以上の工程を経て得られた透明基板に、電着塗装により、その導電性回路上に位置する複数の窓部に、遮光塗膜を形成し、熱処理された硬化塗膜のみを除去する。以上の工程を経て得られた透明基板全面にネガ型フォトレジストを塗布して、塗膜を形成、背面より露光する。遮光性の窓部の塗膜が存在するために露光されなかった未硬化部分を除去する。
請求項(抜粋):
複数の導電性回路を表面に有する透明基板上に、その導電性回路上に位置する複数の窓部の塗膜と、その窓部以外の部分を埋める枠部の機能性塗膜とを形成する方法において、(a)上記導電性回路を有する透明基板全面に、ポジ型又はネガ型フォトレジストを塗布して、塗膜を形成する工程、(b)形成されたポジ型又はネガ型フォトレジスト塗膜の表面に、次の現像工程において窓部の部分を覆わず枠部の部分を覆う塗膜を与えるようなパターンを有するマスクを重ねて、光線を照射する露光工程、(c)枠部の部分の塗膜を残し、それ以外の部分の塗膜を除去する現像工程、(d)枠部の部分の塗膜を熱処理する工程、(e)以上の工程を経て得られた透明基板に、その導電性回路を一方の電極として使って電着塗装を行なうことにより、その導電性回路上に位置する複数の窓部に、後述の露光工程で使う光線を遮光する性質を有する塗膜を形成する工程、(f)上記(d)工程で熱処理された塗膜のみを除去する工程、(g)以上の工程を経て得られた透明基板全面にネガ型フォトレジストを塗布して、塗膜を形成する工程、(h)透明基板の背面より露光する工程、(i)下地に上記(e)工程で形成された遮光性の窓部の塗膜が存在するために露光されなかった未硬化部分を除去する現像工程、を上記の順に行うことを特徴とする方法。
IPC (2件):
G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 505

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