特許

J-GLOBAL ID：200903038694144830

水素含有ガス製造装置及びこれを用いた排気ガス浄化システム

発明者： 赤間 弘 ,  伊藤 淳二 ,  金子 浩昭
出願人/特許権者： 日産自動車株式会社
代理人 (1件)： 的場 基憲
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-302065
公開番号（公開出願番号）：特開2002-106338
出願日： 2000年10月02日
公開日（公表日）： 2002年04月10日
要約：

【要約】【課題】 NOx還元剤貯蔵タンク等を搭載などして燃費を悪化させたりすることなく、200°C又はそれ以下の低排温条件でも高効率でNOxを浄化できる水素含有ガス製造装置及びこれを用いた排気ガス浄化システムを提供すること。【解決手段】 内燃機関の排気ガス浄化に用いられる水素含有ガスをオンボードで製造する水素含有ガス製造装置であって、燃料供給源と、キャリヤーガス供給源と、燃料気化手段と、反応ガスを改質する改質部とを備える。

請求項（抜粋）：

内燃機関の排気ガス浄化に用いられる水素含有ガスをオンボードで製造する水素含有ガス製造装置であって、燃料供給源と、キャリヤーガス供給源と、燃料気化手段と、反応ガスを改質する改質部とを備えることを特徴とする水素含有ガス製造装置。

IPC (9件)：

F01N 3/36 ,  B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/94 ,  B01J 23/46 311 ,  C01B 3/40 ,  F01N 3/08 ,  F01N 3/10 ,  F01N 3/24 ,  F01N 3/28 301

FI (12件)：

F01N 3/36 Z ,  B01J 23/46 311 M ,  C01B 3/40 ,  F01N 3/08 B ,  F01N 3/08 A ,  F01N 3/08 G ,  F01N 3/10 Z ,  F01N 3/24 B ,  F01N 3/28 301 C ,  B01D 53/36 ZAB ,  B01D 53/36 101 B ,  B01D 53/36 103 B

Fターム (78件)：

3G091AA02 ,  3G091AA18 ,  3G091AA28 ,  3G091AB03 ,  3G091AB06 ,  3G091BA14 ,  3G091CA07 ,  3G091CA19 ,  3G091CB02 ,  3G091CB03 ,  3G091CB07 ,  3G091DA01 ,  3G091DA02 ,  3G091DB10 ,  3G091DC01 ,  3G091EA17 ,  3G091EA34 ,  3G091FB02 ,  3G091FB10 ,  3G091FB11 ,  3G091FB12 ,  3G091GA06 ,  3G091GB01X ,  3G091GB02Y ,  3G091GB03Y ,  3G091GB04Y ,  3G091GB06W ,  3G091GB07W ,  3G091GB10X ,  3G091GB16X ,  3G091HA08 ,  3G091HA36 ,  4D048AA06 ,  4D048AA13 ,  4D048AA18 ,  4D048AB02 ,  4D048AB05 ,  4D048AB07 ,  4D048AC01 ,  4D048BA01X ,  4D048BA03X ,  4D048BA14X ,  4D048BA15X ,  4D048BA18X ,  4D048BA19X ,  4D048BA30X ,  4D048BA31X ,  4D048BA41X ,  4D048CC32 ,  4D048CC46 ,  4D048CC61 ,  4D048DA01 ,  4D048DA03 ,  4D048DA06 ,  4D048DA08 ,  4D048DA10 ,  4D048EA04 ,  4G040EA03 ,  4G040EA07 ,  4G040EB03 ,  4G040EB43 ,  4G040EB44 ,  4G040EC03 ,  4G069AA03 ,  4G069BA01A ,  4G069BA01B ,  4G069BB02A ,  4G069BB02B ,  4G069BC71A ,  4G069BC71B ,  4G069CC17 ,  4G069EC03Y ,  4G140EA03 ,  4G140EA07 ,  4G140EB03 ,  4G140EB43 ,  4G140EB44 ,  4G140EC03