特許
J-GLOBAL ID:200903038701505819
水分散型金属加工剤組成物及びその製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
梶 良之
, 須原 誠
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-115322
公開番号(公開出願番号):特開2004-315762
出願日: 2003年04月21日
公開日(公表日): 2004年11月11日
要約:
【課題】防腐剤を用いる必要がなく、分散安定性に優れ、かつ低濃度で使用できる金属加工剤組成物及びその製造方法を提供する。【解決手段】グラファイト、雲母、硫化モリブデンなどの層状化合物 (a) 、ステアリン酸亜鉛などの有機金属塩 (b) 又は酸化ケイ素などの無機金属塩(c)を素材とし、平均粒径を、1nm以上1000nm以下とした超微粒子(A)の群から選ばれた少なくとも1種とカルボキシメチルセルロースナトリウム、ポリビニルアルコールなどの、親水基を有する分散剤(B)の群から選ばれた少なくとも1種を混合し、水中に分散させてなる水分散型金属加工剤組成物及び前記素材の少なくとも1種と分散剤の少なくとも1種と、水とを混合し、摩砕媒体とともに湿式微粉砕機中に投入して素材を摩砕する、水分散型金属加工剤組成物の製造方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
層状化合物 (a) 、有機金属塩 (b) 又は無機金属塩(c)を素材とする超微粒子(A)の群から選ばれた少なくとも1種と、親水基を有する分散剤(B)の群から選ばれた少なくとも1種を混合し、水中に分散させてなる水分散型金属加工剤組成物であって、
前記超微粒子(A)の平均粒径は、1nm以上1000nm以下とし、
前記層状化合物(a)は、硫化モリブデン、硫化タングステン、硫化亜鉛、炭酸カルシウム、グラファイト、窒化ホウ素、タルク、雲母、モンモリロナイト、カオリナイト、メラミンシアヌレート、チタン酸マグネシウムカリウム、チタン酸リチウムカリウムを含み、
前記有機金属塩(b)は、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、又はリノレン酸とカルシウム、マグネシウム、アルミニウム、亜鉛又はバリウムとの塩を含み、
前記無機金属塩(c)は、酸化カルシウム、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、窒化ケイ素を含み
前記分散剤(B)は、カルボキシメチルセルロースナトリウム、ポリビニルアルコール、ポリカルボン酸型高分子界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルフェノールエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン共重合体、ナフタリンスルホン酸ソーダのホルマリン縮合物、リグニンスルホン酸ソーダ、変形ポリカルボキシレート、ポリエチレンイミン、エチレンオキサイド付加物、グリコールエーテル類、硫酸エステル類、アクリル酸、マレイン酸コポリマーのナトリウム塩、ポリオキシエチレンソルビタントリオレート、ジアルキルスルホコハク酸塩およびエステル誘導体を含むことを特徴とする水分散型金属加工剤組成物。
IPC (14件):
C10M173/02
, C10M103/02
, C10M103/06
, C10M105/24
, C10M125/02
, C10M125/22
, C10M125/26
, C10M125/30
, C10M129/40
, C10M145/04
, C10M145/30
, C10M145/36
, C10M145/40
, C10M177/00
FI (17件):
C10M173/02
, C10M103/02 Z
, C10M103/06 A
, C10M103/06 C
, C10M103/06 E
, C10M103/06 F
, C10M105/24
, C10M125/02
, C10M125/22
, C10M125/26
, C10M125/30
, C10M129/40
, C10M145/04
, C10M145/30
, C10M145/36
, C10M145/40
, C10M177/00
Fターム (26件):
4H104AA01Z
, 4H104AA04C
, 4H104AA13C
, 4H104AA19C
, 4H104AA22C
, 4H104AA24C
, 4H104AA26C
, 4H104BB16C
, 4H104BB17C
, 4H104CB02C
, 4H104CB19C
, 4H104EA08C
, 4H104EB04
, 4H104EB08
, 4H104EB10
, 4H104EB13
, 4H104FA01
, 4H104FA02
, 4H104FA03
, 4H104FA04
, 4H104FA06
, 4H104JA01
, 4H104LA02
, 4H104LA03
, 4H104LA08
, 4H104PA21
引用特許:
審査官引用 (6件)
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特開昭58-013696
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特開平2-120397
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特開昭63-270798
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