特許

J-GLOBAL ID：200903038704106214

露光装置、露光方法、及び記録媒体

発明者： 蛭川 茂
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 前田 均 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-011874
公開番号（公開出願番号）：特開2001-203144
出願日： 2000年01月20日
公開日（公表日）： 2001年07月27日
要約：

【要約】【課題】 線幅に影響を与える種々の要因を考慮して、実際に生ずるであろう線幅誤差を統計演算によって求め、線幅誤差を最小とする等の目的に応じて最適な露光条件によって露光処理を行うことである。【解決手段】 データベースサーバ32は、ウエハW上に形成されるデバイスパターンの線幅に影響を与える露光量誤差やフォーカス誤差等の誤差要因の変化とこれらの誤差要因によってデバイスパターンに生じる線幅誤差との関係を予め求めたデータセットを記憶しており、主制御系31は上記記誤差要因の発生についての確率分布を実測によって求め、上記データセットと誤差要因の発生の確率分布とに基づいて、線幅誤差の確率分布を算出する。

請求項（抜粋）：

マスクのパターンの像を基板に投影露光して該基板上にデバイスパターンを形成する露光装置において、基板上に形成されるデバイスパターンの線幅に影響を与える誤差要因の変化と該誤差要因によって該デバイスパターンに生じる線幅誤差との関係を示すデータセットが予め求められて記憶された記憶装置と、前記誤差要因の発生についての第1確率分布を獲得する獲得装置と、前記データセット及び前記第1確率分布に基づいて、前記線幅誤差の発生についての第2確率分布を算出する算出装置と、を備えたことを特徴とする露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/23 ,  G01B 11/00 ,  G01B 11/26

FI (7件)：

G03F 7/23 H ,  G01B 11/00 G ,  G01B 11/00 B ,  G01B 11/00 H ,  G01B 11/26 G ,  G01B 11/26 H ,  H01L 21/30 516 Z

Fターム (62件)：

2F065AA02 ,  2F065AA03 ,  2F065AA04 ,  2F065AA06 ,  2F065AA20 ,  2F065AA22 ,  2F065AA31 ,  2F065BB02 ,  2F065CC00 ,  2F065CC20 ,  2F065EE00 ,  2F065EE03 ,  2F065FF02 ,  2F065FF04 ,  2F065FF10 ,  2F065FF42 ,  2F065FF51 ,  2F065GG03 ,  2F065GG04 ,  2F065HH07 ,  2F065HH12 ,  2F065HH13 ,  2F065HH15 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ08 ,  2F065JJ09 ,  2F065JJ18 ,  2F065JJ24 ,  2F065LL02 ,  2F065LL04 ,  2F065LL10 ,  2F065LL12 ,  2F065LL19 ,  2F065LL28 ,  2F065LL30 ,  2F065LL50 ,  2F065MM28 ,  2F065NN01 ,  2F065NN16 ,  2F065NN17 ,  2F065NN20 ,  2F065PP12 ,  2F065PP13 ,  2F065QQ01 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ41 ,  2F065QQ42 ,  5F046AA28 ,  5F046BA05 ,  5F046CC01 ,  5F046CC03 ,  5F046CC05 ,  5F046CC16 ,  5F046DA02 ,  5F046DA05 ,  5F046DA08 ,  5F046DA14 ,  5F046DB01 ,  5F046DB05 ,  5F046DC09 ,  5F046DC12 ,  5F046DD06